Khảo sát cấu hình nhám giếng lượng tử InN/GaN - Luận văn Thạc sĩ Vật lý

Luận văn thạc sĩ vật lý khảo sát cấu hình nhám từ mật độ hấp thụ tích hợp trong giếng lượng tử inngan, khám phá ứng dụng và tiềm năng.

Chuyên ngành

Vật Lý

Người đăng

Ẩn danh

Thể loại

Luận Văn

2023

66
3
0

Phí lưu trữ

30 Point

Tóm tắt

I. Hướng dẫn luận văn vật lý Giếng lượng tử InGaN và nhám

Luận văn thạc sĩ vật lý này tập trung vào một lĩnh vực tiên tiến của vật lý bán dẫn: khảo sát cấu hình nhám bề mặt trong giếng lượng tử GaN/InGaN. Các cấu trúc nano này là nền tảng cho nhiều linh kiện quang điện tử hiện đại như đèn LED, laser diode và transistor hiệu suất cao. Hiệu quả của các linh kiện này phụ thuộc rất nhiều vào chất lượng của các lớp vật liệu, đặc biệt là tại giao diện giữa chúng. Giếng lượng tử, về bản chất, là một lớp bán dẫn mỏng (ví dụ InGaN) được kẹp giữa hai lớp bán dẫn khác có vùng cấm rộng hơn (ví dụ GaN). Cấu trúc này tạo ra một hố thế năng, giam giữ các hạt tải điện (electron và lỗ trống) theo một chiều, tạo ra các mức năng lượng gián đoạn. Hiện tượng này được gọi là hiệu ứng giam giữ lượng tử, làm thay đổi hoàn toàn các tính chất quang và điện của vật liệu so với dạng khối. Tuy nhiên, trong quá trình chế tạo, bề mặt tiếp xúc giữa các lớp vật liệu không bao giờ hoàn hảo mà luôn tồn tại sự gồ ghề, hay còn gọi là độ nhám. Độ nhám này gây ra sự tán xạ cho các hạt tải, ảnh hưởng trực tiếp đến độ linh động, hiệu suất tái hợp bức xạ và độ rộng của phổ phát xạ. Do đó, việc xác định chính xác các tham số đặc trưng cho cấu hình nhám, bao gồm biên độ nhám (Δ) và chiều dài tương quan (Λ), là một nhiệm vụ cốt lõi trong nghiên cứu cấu trúc nano. Luận văn này đề xuất một phương pháp mới, hiệu quả và kinh tế hơn để giải quyết vấn đề này, dựa trên việc phân tích quang phổ hấp thụ và một đại lượng gọi là mật độ hấp thụ tích hợp. Cách tiếp cận này hứa hẹn mở ra hướng đi mới trong việc tối ưu hóa các thiết bị bán dẫn, đóng góp quan trọng cho ngành luận văn vật lý chất rắn.

1.1. Giới thiệu vật liệu InGaN trong linh kiện quang điện tử

Hợp chất bán dẫn vật liệu InGaN (Indium Gallium Nitride) là một trong những vật liệu quan trọng nhất trong công nghệ quang điện tử hiện đại. Đây là một hợp kim ba nguyên tố của InN và GaN, có khả năng thay đổi độ rộng vùng cấm một cách liên tục từ 0.64 eV (InN) đến 3.44 eV (GaN) bằng cách điều chỉnh tỷ lệ thành phần Indium. Đặc tính này cho phép các kỹ sư chế tạo các linh kiện phát quang trên toàn bộ dải phổ nhìn thấy, từ đỏ đến tím, và cả vùng tử ngoại. Các ứng dụng nổi bật nhất của InGaN bao gồm đèn LED hiệu suất cao, điốt laser xanh dương và trắng, và các tế bào quang điện. Các linh kiện quang điện tử dựa trên InGaN có những ưu điểm vượt trội như tuổi thọ cao, tiết kiệm năng lượng và độ bền cơ học tốt. Việc hình thành các giếng lượng tử GaN/InGaN là kỹ thuật cơ bản để tạo ra các thiết bị này, giúp tăng cường hiệu suất tái hợp bức xạ và kiểm soát chính xác bước sóng phát ra.

1.2. Vai trò của hiệu ứng giam giữ lượng tử trong bán dẫn

Trong các vật liệu bán dẫn khối, các electron có thể chuyển động tự do trong không gian ba chiều, tạo thành các vùng năng lượng liên tục (vùng dẫn và vùng hóa trị). Tuy nhiên, khi kích thước của vật liệu bị giới hạn xuống thang đo nanomet theo một hoặc nhiều chiều, hiệu ứng giam giữ lượng tử sẽ xuất hiện. Cụ thể, trong một giếng lượng tử, chuyển động của hạt tải bị hạn chế theo phương vuông góc với bề mặt giếng. Theo nguyên lý của cơ học lượng tử, sự giam giữ này khiến cho năng lượng của hạt tải bị lượng tử hóa, tức là chúng chỉ có thể tồn tại ở các mức năng lượng gián đoạn, giống như các mức năng lượng của một nguyên tử. Các mức năng lượng này phụ thuộc vào độ rộng và độ sâu của giếng thế. Hiệu ứng lượng tử này làm thay đổi mạnh mẽ mật độ trạng thái năng lượng, dẫn đến những đặc tính quang học và điện tử độc đáo, chẳng hạn như sự tăng cường hệ số hấp thụ quang tại các năng lượng chuyển dời cụ thể, làm nền tảng cho hoạt động của laser bán dẫn và các bộ điều biến quang học.

II. Thách thức khi xác định cấu hình nhám trong cấu trúc nano

Việc xác định chính xác cấu hình nhám tại giao diện của các dị cấu trúc bán dẫn là một thách thức lớn cả về lý thuyết và thực nghiệm. Độ nhám giao diện là một hiện tượng thăng giáng ngẫu nhiên, phát sinh từ nhiều nguyên nhân như sự không tương thích hằng số mạng giữa các lớp vật liệu, sự khuếch tán của các nguyên tử trong quá trình nuôi cấy, hay sự không đồng đều của dòng vật chất. Độ nhám này không chỉ làm thay đổi độ rộng của giếng lượng tử một cách cục bộ mà còn tạo ra một thế tán xạ ngẫu nhiên, ảnh hưởng đến chuyển động của các hạt tải. Các cơ chế tán xạ chính trong hệ hai chiều bao gồm tán xạ do nhám bề mặt (SR), tán xạ do mất trật tự hợp kim (AD), tán xạ do tạp chất ion hóa (II) và tán xạ do phonon. Trong đó, tán xạ do nhám bề mặt thường đóng vai trò chủ đạo ở nhiệt độ thấp. Vấn đề cốt lõi là cấu hình nhám được mô tả bởi hai tham số độc lập: biên độ nhám Δ (độ cao trung bình của sự gồ ghề) và chiều dài tương quan Λ (kích thước của vùng mà các điểm nhám còn ảnh hưởng lẫn nhau). Các phương pháp truyền thống để xác định hai tham số này thường gặp nhiều khó khăn. Ví dụ, một số phương pháp đòi hỏi phải chế tạo và đo đạc trên nhiều mẫu có độ rộng giếng khác nhau nhưng phải giả định rằng chúng có cùng cấu hình nhám, một giả định khó đảm bảo trong thực tế. Các kỹ thuật đo đạc trực tiếp như kính hiển vi điện tử truyền qua (TEM) tuy cung cấp hình ảnh trực quan nhưng lại bị giới hạn về độ phân giải và chỉ mang tính cục bộ. Do đó, việc tìm ra một phương pháp quang học, không phá hủy, và chỉ cần sử dụng một mẫu duy nhất để tách biệt và xác định Δ và Λ là một mục tiêu quan trọng trong luận văn vật lý chất rắn.

2.1. Nguồn gốc độ nhám giao diện và các cơ chế tán xạ

Trong các dị cấu trúc bán dẫn như GaN/InGaN, độ nhám giao diện là một sai hỏng không thể tránh khỏi. Nguyên nhân chính là do sự không tương thích về hằng số mạng và hệ số giãn nở nhiệt giữa InN và GaN. Khi một lớp vật liệu được nuôi cấy trên một lớp vật liệu khác, sự chênh lệch này tạo ra sức căng trong màng, có thể dẫn đến sự hình thành các đảo 3D hoặc các bề mặt gồ ghề thay vì một mặt phẳng lý tưởng. Sự gồ ghề này tạo ra một thế năng thăng giáng ảnh hưởng đến các hạt tải trong giếng lượng tử, gây ra cơ chế tán xạ nhám bề mặt (SR). Ngoài ra, trong các hợp kim như InGaN, sự phân bố ngẫu nhiên của các nguyên tử In và Ga trên các nút mạng cũng gây ra một loại tán xạ gọi là tán xạ mất trật tự hợp kim (AD). Các tương tác spin-quỹ đạo cũng có thể bị ảnh hưởng bởi sự bất đối xứng của thế năng do nhám gây ra. Hiểu rõ các cơ chế này là điều kiện tiên quyết để mô hình hóa chính xác các tính chất vận chuyển và quang học của thiết bị.

2.2. Hạn chế của các phương pháp phân tích truyền thống

Các phương pháp truyền thống để khảo sát cấu hình nhám thường dựa trên việc phân tích độ rộng vạch phổ của phổ quang phát quang hoặc phổ hấp thụ. Độ rộng vạch phổ bị ảnh hưởng bởi nhiều cơ chế tán xạ, và sự đóng góp của tán xạ nhám bề mặt phụ thuộc vào cả hai tham số Δ và Λ dưới dạng một tích (ΔΛ)². Điều này gây ra sự mơ hồ vì không thể xác định riêng rẽ từng tham số chỉ từ một phép đo duy nhất. Để khắc phục, các nhà nghiên cứu thường phải thực hiện các phép đo trên một loạt các mẫu có độ rộng giếng khác nhau. Tuy nhiên, cách tiếp cận này dựa trên giả định rằng Δ và Λ không đổi khi độ rộng giếng thay đổi, điều này không hoàn toàn chính xác trong thực nghiệm. Các phương pháp khác như kính hiển vi lực nguyên tử (AFM) chỉ có thể khảo sát bề mặt trên cùng, không phải giao diện bị chôn vùi bên trong. Do đó, một phương pháp mới, đáng tin cậy hơn là hết sức cần thiết.

III. Phương pháp mô phỏng số giải phương trình Schrödinger

Để hiểu rõ ảnh hưởng của cấu hình nhám lên các tính chất quang học, luận văn trước hết phải xây dựng một mô hình lý thuyết vững chắc cho giếng lượng tử GaN/InGaN. Nền tảng của mô hình này là việc giải phương trình Schrödinger ở trạng thái dừng cho các hạt tải (electron) bị giam giữ trong một hố thế hữu hạn. Cấu trúc được xem xét là một lớp InN (giếng) kẹp giữa hai lớp GaN (rào thế). Độ sâu của hố thế được xác định bởi sự chênh lệch vùng dẫn giữa GaN và InN, có giá trị khoảng 1.40 eV. Bằng cách sử dụng các phương pháp số, luận văn đã tính toán được các trạng thái năng lượng lượng tử hóa (E₀, E₁,...) và các hàm sóng tương ứng (ψ₀(z), ψ₁(z),...) của electron trong giếng. Việc giải phương trình này cho phép xác định cấu trúc vùng năng lượng của hệ, bao gồm các vùng con (subband) hình thành do hiệu ứng giam giữ. Các hàm sóng thu được có vai trò cực kỳ quan trọng, vì chúng mô tả xác suất tìm thấy electron tại một vị trí z nhất định và là đầu vào cần thiết để tính toán các yếu tố ma trận chuyển dời quang học và thế tán xạ do nhám bề mặt. Luận văn đã sử dụng phần mềm Mathematica để thực hiện các phép mô phỏng số và vẽ đồ thị, đảm bảo tính chính xác và trực quan cho các kết quả lý thuyết. Mô hình này không chỉ giới hạn ở giếng thế vuông mà còn có thể mở rộng cho các dạng thế khác như tam giác hay parabol, tùy thuộc vào cấu trúc linh kiện cụ thể. Các lý thuyết phức tạp hơn như lý thuyết phiếm hàm mật độ (DFT) hay mô hình k.p cũng có thể được sử dụng để có được mô tả chính xác hơn về cấu trúc vùng năng lượng.

3.1. Xây dựng mô hình giếng lượng tử thế vuông góc sâu hữu hạn

Mô hình được lựa chọn trong luận văn là giếng lượng tử thế vuông góc có độ sâu hữu hạn, phản ánh đúng nhất cấu trúc dị chất kép GaN/InN/GaN. Trong mô hình này, thế năng V(z) bằng 0 bên trong lớp InN (giếng) và bằng V₀ (độ chênh lệch vùng dẫn) bên trong các lớp GaN (rào). Khác với giếng thế sâu vô hạn, trong trường hợp này, hàm sóng của hạt tải không triệt tiêu tại biên mà có một phần "xâm nhập" vào vùng rào thế. Hiện tượng này được gọi là hiệu ứng đường ngầm. Việc giải phương trình Schrödinger với các điều kiện biên phù hợp (sự liên tục của hàm sóng và đạo hàm của nó tại các giao diện) cho phép tìm ra một tập hợp các mức năng lượng gián đoạn. Các mức năng lượng này phụ thuộc vào các thông số của giếng như độ rộng L, độ sâu V₀, và khối lượng hiệu dụng của electron trong từng vật liệu.

3.2. Tính toán cấu trúc vùng năng lượng và hàm sóng hạt tải

Kết quả của việc giải phương trình Schrödinger là một bộ các giá trị năng lượng riêng và hàm sóng riêng. Các giá trị năng lượng này hình thành nên các đáy của các vùng con trong không gian hai chiều. Cấu trúc vùng năng lượng này quyết định các quá trình hấp thụ và phát xạ quang học. Ví dụ, sự hấp thụ quang liên vùng con (intersubband absorption) xảy ra khi một electron ở vùng con cơ bản E₀ hấp thụ một photon và chuyển lên vùng con kích thích E₁. Năng lượng của photon phải tương ứng với sự chênh lệch năng lượng E₁ - E₀. Các hàm sóng tính được, ψ(z), là yếu tố then chốt để tính toán thế năng tán xạ do độ nhám giao diện. Cụ thể, thế tán xạ tỷ lệ với đạo hàm của hàm sóng tại biên và sự thăng giáng của độ rộng giếng, do đó, một mô tả chính xác về hàm sóng là cực kỳ quan trọng.

IV. Bí quyết xác định nhám từ mật độ hấp thụ tích hợp mới

Điểm đột phá của luận văn nằm ở việc đề xuất một phương pháp mới để xác định độc lập hai tham số của cấu hình nhám (Δ và Λ) chỉ từ một mẫu giếng lượng tử duy nhất. Phương pháp này dựa trên một đại lượng vật lý gọi là "cường độ hấp thụ tích hợp" (integrated absorption intensity). Thông thường, quang phổ hấp thụ của quá trình chuyển dời liên vùng con có dạng một đỉnh phổ. Đỉnh phổ này được đặc trưng bởi chiều cao và độ rộng vạch phổ. Chiều cao đỉnh phổ tỷ lệ nghịch với độ mở rộng năng lượng (hay độ rộng vạch phổ). Trong khi đó, độ rộng vạch phổ lại tỷ lệ thuận với bình phương của tích (ΔΛ) khi tán xạ nhám bề mặt là chủ đạo. Sự phụ thuộc này khiến việc tách rời Δ và Λ trở nên bất khả thi theo cách thông thường. Tuy nhiên, luận văn đã chỉ ra rằng, cường độ hấp thụ tích hợp, được định nghĩa là tích của chiều cao đỉnh phổ và độ rộng vạch phổ, có một tính chất đặc biệt: nó là một hàm chỉ phụ thuộc vào chiều dài tương quan Λ và độc lập với biên độ nhám Δ. Điều này mở ra một quy trình xác định nhám gồm hai bước rõ ràng. Đầu tiên, đo đạc phổ hấp thụ từ thực nghiệm để xác định giá trị cường độ hấp thụ tích hợp. Sau đó, so sánh giá trị này với đường cong lý thuyết của cường độ hấp thụ tích hợp theo Λ (tính toán từ mô phỏng số) để tìm ra giá trị duy nhất của Λ. Khi đã có Λ, bước thứ hai là sử dụng giá trị đo được của độ rộng vạch phổ, vốn phụ thuộc vào cả Λ và Δ, để tính toán ra giá trị của Δ. Phương pháp này loại bỏ được giả định thiếu thực tế của các phương pháp cũ và mang lại độ tin cậy cao hơn.

4.1. Phân tích quang phổ hấp thụ và độ rộng vạch phổ

Phân tích quang phổ hấp thụ là bước đầu tiên và quan trọng nhất. Phổ này cho thấy hệ số hấp thụ quang của vật liệu như một hàm của năng lượng photon. Đối với chuyển dời liên vùng con trong giếng lượng tử, phổ thường có dạng đường cong Lorentz. Từ phổ đo được, hai thông số quan trọng được trích xuất: chiều cao của đỉnh hấp thụ và độ rộng tại nửa chiều cao tối đa (FWHM - Full Width at Half Maximum), hay còn gọi là độ rộng vạch phổ. Độ rộng vạch phổ là một thước đo tổng hợp của tất cả các quá trình tán xạ làm giảm thời gian sống của các trạng thái lượng tử, bao gồm tán xạ do độ nhám giao diện, phonon, và tạp chất. Bằng cách thực hiện phép đo ở nhiệt độ thấp, ảnh hưởng của phonon có thể được giảm thiểu, làm cho sự đóng góp của tán xạ nhám trở nên nổi bật.

4.2. Ứng dụng cường độ hấp thụ tích hợp để tìm chiều dài Λ

Cường độ hấp thụ tích hợp (I) được định nghĩa là I = (Chiều cao đỉnh phổ) × (Độ rộng vạch phổ). Luận văn đã chứng minh về mặt lý thuyết rằng trong biểu thức của I, sự phụ thuộc vào tổ hợp (ΔΛ)² bị triệt tiêu. Kết quả là I trở thành một hàm chỉ của chiều dài tương quan Λ, I = f(Λ), và các tham số đã biết của giếng lượng tử (độ rộng giếng L, mật độ điện tử nₛ). Bằng cách tính toán hàm f(Λ) bằng mô phỏng số, ta có một đường cong lý thuyết. Đo giá trị I từ thực nghiệm và đối chiếu với đường cong này, ta có thể xác định một cách duy nhất giá trị của Λ. Đây là bước đột phá vì nó cho phép "cô lập" và tìm ra một trong hai tham số nhám mà không bị ảnh hưởng bởi tham số còn lại.

V. Kết quả nghiên cứu cấu hình nhám trong luận văn vật lý

Áp dụng phương pháp mới được đề xuất, luận văn đã tiến hành tính toán và xác định các tham số cấu hình nhám cho một giếng lượng tử GaN/InN/GaN cụ thể. Các thông số của mẫu được lấy từ dữ liệu thực nghiệm: độ rộng giếng L = 95 Å, mật độ điện tử nₛ = 0.15 x 10¹² cm⁻², và các khối lượng hiệu dụng của electron trong InN và GaN. Bước đầu tiên, cường độ hấp thụ tích hợp được tính toán như một hàm của chiều dài tương quan Λ. Bằng cách so sánh kết quả tính toán với giá trị thực nghiệm (được biểu diễn bằng đường nét đứt trên đồ thị), luận văn đã xác định được chiều dài tương quan có giá trị là Λ = 68 Å. Đây là một kết quả quan trọng, cho thấy kích thước trung bình của các vùng gồ ghề trên giao diện. Với giá trị Λ đã biết, bước tiếp theo là xác định biên độ nhám Δ. Luận văn đã vẽ đồ thị của độ rộng vạch phổ do tán xạ nhám bề mặt như một hàm của Δ, với Λ = 68 Å đã được cố định. Đối chiếu với giá trị độ rộng vạch phổ đo được từ thực nghiệm, giá trị của biên độ nhám được xác định là Δ = 3.6 Å. Các kết quả này cung cấp một bộ thông số hoàn chỉnh và định lượng về cấu hình nhám của mẫu, là thông tin vô giá cho các nhà chế tạo vật liệu để cải tiến quy trình công nghệ. Luận văn cũng tiến hành khảo sát sự thay đổi của các tham số này khi thay đổi độ rộng giếng lên L = 100 Å, cho thấy tính linh hoạt và ứng dụng rộng rãi của phương pháp.

5.1. Giá trị chiều dài tương quan Λ và biên độ nhám Δ

Kết quả tính toán cụ thể từ luận văn cho thấy đối với giếng lượng tử InN/GaN rộng 95 Å, cấu hình nhám được đặc trưng bởi chiều dài tương quan Λ = 68 Å và biên độ nhám Δ = 3.6 Å. Chiều dài tương quan 68 Å cho biết sự gồ ghề tại một điểm trên giao diện có ảnh hưởng đến các điểm khác trong một phạm vi bán kính khoảng 68 Å. Ngoài khoảng cách này, sự tương quan về hình thái bề mặt giảm đi đáng kể. Biên độ nhám 3.6 Å thể hiện độ cao trung bình của các "mấp mô" so với một mặt phẳng lý tưởng, tương đương với khoảng 1-2 lớp đơn nguyên tử. Những con số này cung cấp một bức tranh định lượng rõ ràng về chất lượng giao diện, giúp đánh giá và so sánh các kỹ thuật chế tạo khác nhau.

5.2. So sánh ảnh hưởng khi thay đổi độ rộng giếng lượng tử

Để kiểm tra tính nhất quán và độ nhạy của phương pháp, luận văn đã thực hiện một phân tích so sánh bằng cách thay đổi độ rộng giếng từ L = 95 Å lên L = 100 Å. Kết quả cho thấy khi độ rộng giếng tăng, các tham số cấu hình nhám cũng có sự thay đổi. Việc phân tích này rất quan trọng vì nó chứng tỏ rằng cấu hình nhám không phải là một hằng số bất biến mà có thể phụ thuộc vào các điều kiện nuôi cấy và cấu trúc của mẫu. Cụ thể, khi giếng rộng hơn, các mức năng lượng lượng tử hóa sẽ dịch chuyển và hàm sóng của hạt tải cũng thay đổi, dẫn đến sự tương tác khác đi với thế tán xạ nhám. Phân tích này khẳng định tầm quan trọng của việc xác định cấu hình nhám cho từng mẫu cụ thể thay vì sử dụng một giả định chung.

27/07/2025

Trích đoạn nội dung tài liệu

Chương 1 CƠ SỞ LÝ THUYẾT Chương nàu trình bàu tổng quan về các tham số của tật liệu bán dẫn InN/GaN, các mô hình của giếng lượng tử bao gồm giếng lượng tử tuông góc sâu tô han, giếng lượng tử tuông góc sâu hữu hạn, giếng lượng tử parubol tà giếng lượng tử tam. Vẽ các đồ thị hầm sóng tà năng lượng tương ting nói mỗi loại giếng. Cuối cùng là trình bà các cơ chế tán zạ của hạt tải chủ tiểu ảnh hưởng đến cầu hình nhám. Tổng quan về vật liệu bán dẫn InN/GaN “Trong cầu trúc tỉnh thể tồn tại hai dạng hợp chất của nitơ: Wurtzite (WZ) và Zine-Blende (2B).

Cầu trúc Wurtzite là loại cấu trúc lục giác với hai thông số mạng a,e trong khi cấu trúc Zinc-Blende có dạng tứ. m đều, nghĩa là mỗi ngi on tit IA tâm của một tứ diện cấu tạo từ 4 tử gần nhất. Zine-Blende là e siêu bền và là hình thức chủ yếu khi một màng được phát triển trên bề mặt khối. Tuy nhiên, hợp chất nitơ nhóm II thường kết tỉnh chủ yếu trong giai đoạn lục (wi Zite).

Đặc trưng của nó là phát triển dọc theo trục hình thức này tồn tại mạnh mẽ trong tự nhiên và trong điện áp. Để có thể xác định được cát mạng Wirtzite ta cần ba tham số sau: độ dài cạnh của hình lục giác (øa), chiều cao (co) và tỉ lệ độ đài liên kết cation-anion (uo) 2 dọc theo hướng {0 0 0 1]. M ot tinh thể Wurtzite được gọi là lý tưởng khi tỷ lệ eo/au là 8/8 = 633 và giá trị cho up là 0,375. Các thông số của vật liệu bán dẫn InN.

Indium Nitride (InN) 1a ban dẫn hợp chất A!“BY có cấu trúc lục giác. InN là một chất bán dẫn có bề rộng vùng cắm nhỏ, nó được ứng, dụng trong các tế bào năng lượng mặt trời và điện tử tốc độ cao. Khối lượng hiệu dụng của điện tử trong thời gian gần đây được xác định bằng, phép đo từ trường cao.1: Cin tric tinh thé InN, Năng lượng vùng cắm của vật liệu bán din InN phụ thuộc vào nhiệt độ theo biểu thức. gai" (La) trong 46 £,(0) = 0,78 eV là năng lượng vùng cém 4 nhigt do T = 0 K.1: Các thông số của vật liêu bán dẫn InN ở nhiệt độ 300 K, Thong sé Ky higu] Giá trị Khối lượng hiệu dụng của electron m2 [1,001 x 10-™ kg Khối lượng riêng.

D 6,81 g/em* Hằng số mạng, © 5,70 Á Hằng số mạng a 3,54 A Hing số điện moi tinh £ 15,3 F/m Năng lượng vùng cấm E, 0,64 eV Năng lượng phonon quang hw 89 eV Vận tốc cực đại v 4,3 x 10° m/s do nong chiy te 100% 1.2, Các thông số của vật liệu bán din GaN Gallium Nitride (GaN) Ia bin din hop chit AMBY va nó thuộc dạng cầu trúc lục giác. Độ rộng vùng cấm lớn nên nó có các thuộc tính. đặc biệt và được áp dụng trong quang điện tử và các thiết bị có tần số. Sự phân bồ GaN tronge rúc We tzite lue giác như sau: 4 nguyên.

tử trong một 0, với m yên tử Ga ở (00 0), (225) 232 và nguyên tử N ở (0 hằng số mang của Wurtzite GaN được xác định là: a= 0,3189 nm, ¢ = 0,5185 nm, ‘ = 1,625. Năng lượng vùng cấm của vật liệu bán dẫn GaN phụ thuộc vào nhiệt độ theo biểu thức _ 0,909.72 B,(T) = E,(0) T +830" (12) trong 46 £,(0) = 3,510 eV là năng lượng vùng cấm ở nhiệt độ T = 0K.2: Cầu trúc tỉnh thé GaN, Bảng 1.2: Các thông số của về wu bán dẫn GaN ở nhiệt độ 300 K. Thong sé Ký hiệu Giá trị Khối lượng hiệu dụng của eleetron. 2, 184 x 107%! kg Khối lượng riêng, D 6,15 g/em* Hing sé mang e 5,185 A Hằng số mạng a 3,189 A Hằng số điện môi tĩnh.9 F/m Năng lượng vùng cắm bì 3,44 6V.

Năng lượng phonon quang hạ 0,0912 eV Vận tốc cực đại v 3,2 x 10° m/s t dO néng chai te > 1700°C Độ dẫn nhiệt A 1,5 W/em°C 1 1. Các thông số của bán dẫn thấp chiều InN/GaN. Di cầu trúc IN/GaN bao gồm một lớp IaN trên một lớp GaN. Đặc điểm và tính chất của đị cầu trúc bán dẫn InN/GaN phụ thuộc vào cấu trúc tỉnh thể, khối lượng hiệu dung cita electron và lỗ trồng, thành phần.

hóa học, bề rộng khe vùng và mật độ trạng thái hiệu dụng trong vùng dẫn hóa trị của các bán dẫn thành phần InN va GaN. Vì bề rộng vùng cấm của GaN (E, = 3,44 eV) lớn hơn so với bề rộng vùng cắm của bán dẫn InN (E, = 0,64 eV). Do sự chênh lệch bề rộng khe vùng này nên khi ghép hai vật liệu lại với nhau để tạo nên di cầu trúc InN/GaN thì đáy vùng dẫn và đỉnh vùng hóa trị của InN nằm giữa khe vùng của GaN, nó được mô tả cụ thể trong hình 1. — 22 344eU lostev Bev InN GaN Hình 18: Bề rộng khe vùng của IaN/GaN, Nên cầu trúc giếng lượng tử hình thành trong vật liệu InN/GaN có độ cao hàng rào thế tương ứng với độ chênh lệch vùng dẫn của hai lớp 16 vật liệu này là AE, = 1,40 eV, dẫn tới các hàng rio thé này bị lượng tử hóa và độ linh động của điện tử đối với vật liệu này.

1g có những khác biệt, Nhờ những yếu tố này mà InN/GaN đang trở thành một trong những lựa chọn tối tru nhất đối với tần số cao, công suất cao và các ứng, dụng điện tử ở nhiệt độ cao trong tương lai vì nó có những đặc điểm và tính chất đặc trưng của vật liệu IaN/GaN so với các vật êu khác Hing s6 mang GaN là 0,3189 nm sai khác ít so với bin din InN là 0354 nm nên cần phải có kĩ thuật tốt trong việc nuôi cấy GaN trên nền InN nhằm làm giảm độ nhám trên bề mặt tiếp giáp giữa hai vật Ngày nay, người ta đã tìm ra một ố công nghệ như phương pháp. epitaxy chim phan tit, phương pháp lắng đọng hóa hữucơ kim loại để chế tạo ra vật liệu bán dẫn thấp chiều có độ nhám bề mặt thấp. Cơ sở của cấu hình nhám Như ta đã biết cầu hình nhám có vai trò rất quan trọng trong việc nghiên cứu các tính chất của các dị cầu trúc, quyết định đến phần lớn các tính chất của nó như sự vận tải hạt tải, chuyển dời quang học liên vùng và vạch exiton. Sự tán xạ làm ảnh hưởng đến độ linh động của hạt tải cũng như độ dẫn điện, độ dẫn nhiệt và các tính chất quang của vật liệu.

Đối với mỗi hệ vật liệu nghiên cứu khác nhau thì sự chuyển động, của điện tử trong tỉnh thể lại chịu tác động của các trường thế tán xa khác nhau. Trong hộ hai chiều, ta phải kể đến bồn cơ chế tần xạ quan trọng nhất là: tán xa nhám bề mặt tiếp xúc (SR), tán xa hợp kim (AD), tần xa bởi các tạp chất ion héa (II), tan xa phonon am (LA), phonon quang (LO). Trong phần này, chúng tôi sẽ trình bày nguyên nhân của các cơ chế tán xạ nói trên.1, Tan xa nham bé mat (SR) “Trong dị cấu trúc bán dẫn, ta thấy rằng bề mặt tiếp xúc giữa các lớp bán dẫn khác nhau luôn bị nhám. Cơ chế tán xạ nhám này được gây ra bởi sự không tương thích hằng số mạng và do nguyên tử của hai loại vật liệu này lần lượt chiếm các vị trí trên nút mạng một cách ngẫu nhiên làm cho bề mặt tiếp xúc bị nhám.

Điều này làm thay đổi điều kiện biên của hàng rào thế giam giữ hạt tải theo phương giam giữ và gây ra tần xạ hạt tải. Cơ chế tán xạ này gọi là tán xạ nhám bề mặt truyền thống. Còn khi di cấu trúc bán dẫn được làm bằng vật liệu phân cực, sự không liên tục ở nơi giao nhau giữa hai phần dị chất sẽ tạo ra một hệ điện tích phân cực ở bề mặt. Các điện tích phân cực này cũng đóng, góp quan trọng đến thế giam cầm hạt tải, làm thay đổi cầu trúc điện và đặc tính quang của vật liệu.

Vì vậy, cầu hình nhám có vai trò rất quan trọng trong việc nghiên cứu các tính chất của các dị cấu trúc. 'Tán xạ nhám bề mặt được xác định bởi biên độ nhám cũng như bởi đạo hàm của hàm sóng tại mặt phân cách và chiều rộng ⁄ của hồ lượng tử. Ngoài việc làm thay đổi bề rộng của giếng thì nhám bề mặt còn làm thay đổi dạng của các đại lượng vật lý có liên quan đến biên một cách ngẫu nhiên từ đó xuất hiện các cơ chế tán xa mới hiệu dụng có liên quan đến sự nhám bẻ mặt. Một cơ chế tán xa bổ sung điền hình là tán xạ bởi các điện tích áp điện khối phân bố ngẫu nhiên.

Mỗi nguồn tán xạ thực chất là một nguồn không trật ty, thé tan xa V là hàm ngẫu nhiên, do 18 đó ta phải chi ra được phân bố xác suất. Trị trung bình theo phân bố xác suất cho ta trung bình của kết quả quan sát được. Tán xạ do mất trật tự hợp kim ban dan (AD) Mắt trật tự hợp kim là do sự pha tạp trong thành phần các vật liệu cấu tạo nên dị chất và nó đặc biệt chỉ tồn tại trong các hợp kim bán din, Loai này được nhận thấy rõ trong cầu trúc dị chất có chất bán dẫn vùng cắm hẹp nơi chứa phần lớn các hạt dẫn là hợp kim. Tán xạ mất trật tự hợp kìm gây ra bởi các nguyên tử tạo nên hợp kim chiếm một cách ngẫu nhiên tại các nút mạng.

Tan xa do các tạp chất ion hóa (H) Sự ion hóa các tap chất trong vật liệu bán dẫn có pha tạp làm xuất hiện các ion tạp chất phân bố ngẫu nhiên và không đồng nhất, đó là nguyên nhân gây ra tán xạ lên hạt tải. Ngoài ra, sự phân bó không gian. của các ion tạp chất còn ảnh hưởng đến độ linh động của hạt dẫn. Các ion tạp chất này có thể được làm sạch để giảm quá trình tán xạ lên hạt tải 1.4, Tan xa do phonon (LO phonon va LA phonon) Dao dong cita phonon IA nguyén nhan gây ra sư tán xa lên hạt tải.

Vì trong tỉnh thể luôn xảy ra quá trình dao động mạng, trong đó mọi vị trí của tỉnh thể đều dao động. Khi lượng tử hóa của dao dong mang 1A phonon thì tập hợp các dao động này được xe như là s ig lan truyền. trong tinh thể 19 1. Khảo sát các cấu hình của giếng lượng tử Năm 1970, Esaki và Tsu da đưa ra khái niệm giếng lượng tử, đó là một bước tiền rất quan trọng trong Vật lý bán dẫn.

Nội dung được bảo vệ bản quyền — Tải xuống đầy đủ