Luận án tiến sĩ về động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời CIGS tại ĐHQGHN

Luận án tiến sĩ nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời CIGS qua phương pháp điện hóa, góp phần phát triển công nghệ năng lượng tái tạo.

Trường đại học

Đại học Quốc gia Hà Nội

Chuyên ngành

Vật lý Nhiệt

Người đăng

Ẩn danh

Thể loại

luận án tiến sĩ

2015

126
1
0

Phí lưu trữ

35 Point

Mục lục chi tiết

LỜI CAM ĐOAN

LỜI CẢM ƠN

1. CHƯƠNG I: TỔNG QUAN VỀ PIN MẶT TRỜI MÀNG MỎNG CIGS

1.1. Cấu trúc và nguyên lý hoạt động của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS

1.2. Cấu trúc cơ bản của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS

1.3. Sơ đồ vùng năng lượng của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS

1.4. Nguyên lý hoạt động của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS

1.5. Đặc trưng dòng-thế (I-V) của PMT

1.6. Lớp hấp thụ CIGS

1.7. Tính chất quang điện

1.8. Sự hấp thụ ánh sáng

1.9. Sự phụ thuộc của độ rộng vùng cấm vào thành phần của CIGS

1.10. Cấu trúc tinh thể

1.11. Giản đồ pha và các thông số nhiệt động học

1.12. Một số phương pháp lắng đọng chế tạo màng mỏng CIGS

1.12.1. Đồng bốc bay từ các nguồn nguyên tố

1.12.2. Selen hóa của lớp tiền chất kim loại

1.12.3. Bốc bay từ các nguồn hợp chất

1.12.4. Lắng đọng hơi hóa học

1.12.5. Phương pháp lắng đọng điện hóa một bước chế tạo màng mỏng CIGS

1.12.6. Cơ chế lắng đọng màng CIGS

1.12.7. Vai trò của các tham số trong lắng đọng điện hóa màng CIGS

1.13. Nhiệt động học quá trình lắng đọng điện hóa màng mỏng

1.14. Động học điện cực

1.15. Quá trình lắng đọng điện hóa của các hợp chất

2. CHƯƠNG II: PHƯƠNG PHÁP THỰC NGHIỆM

2.1. Phương pháp chế tạo mẫu

2.2. Nghiên cứu cơ chế lắng đọng màng CIGS

2.3. Kỹ thuật Vol-Ampe Vòng (Cyclic Voltammetry - CV)

2.4. Kỹ thuật cân vi lượng tinh thể thạch anh trong điện hóa (EQCM)

2.5. Nghiên cứu cấu trúc và hình thái bề mặt của màng mỏng

2.5.1. Ảnh hiển vi điện tử quét (SEM) và phổ tán sắc năng lượng (EDS)

2.5.2. Phân tích cấu trúc tinh thể bằng phương pháp nhiễu xạ tia X

2.6. Đo độ dày màng mỏng bằng phương pháp Stylus Profiler

2.7. Đo đặc trưng quang - điện

2.8. Kỹ thuật ủ xử lý nhiệt

3. CHƯƠNG III: KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN

3.1. Nghiên cứu cơ chế tạo pha CuSex trong quá trình điện hóa bằng phương pháp EQCM

3.2. Thực nghiệm phép đo EQCM kết hợp CV và lắng đọng màng CuSex

3.3. Vai trò của chất tạo phức axit sulfamic trong sự tạo pha CuSex trong chế độ quét thế

3.4. Cơ chế lắng đọng của Cu - Nghiên cứu EQCM kết hợp CV

3.5. Cơ chế lắng đọng của hệ Cu –Se. Nghiên cứu EQCM kết hợp CV

3.6. Vai trò của chất axit sulfamic trong sự tạo pha CuSex trong chế độ thế không đổi

3.7. Lắng đọng tại thế không đổi

3.8. Thành phần của các mẫu lắng đọng ở chế độ thế không đổi

3.9. Nghiên cứu lắng đọng Ga (hệ CuGaSe2) trên các đế Mo và ITO

3.10. Thực nghiệm về lắng đọng Ga (hệ CuGaSe2) trên các đế Mo và ITO

3.11. Các kết quả CV

3.12. Đặc trưng I-V của các đơn chất Cu, Ga và Se

3.13. Đặc trưng I-V của hệ 3 nguyên Cu-Ga-Se. Kết quả lắng đọng của màng CuGaSe2

3.14. Nghiên cứu cơ chế lắng đọng điện hóa màng mỏng CIGS bằng phương pháp Vol-Ampe Vòng (CV)

3.15. Thực nghiệm về lắng đọng điện hóa màng mỏng CIGS bằng phương pháp Vol-Ampe Vòng (CV)

3.16. Ảnh hưởng của nồng độ chất tạo phức axit sulfamic lên quá trình lắng đọng điện hóa lớp hấp thụ CIGS - Các kết quả CV

3.17. Đặc trưng I-V của các đơn chất Cu, Ga, In và Se

3.18. Đặc trưng I-V của hệ 2 nguyên Cu- Se

3.19. Đặc trưng I-V của hệ bốn Cu-In-Ga-Se

3.20. Ảnh hưởng của nồng độ chất tạo phức axit sulfamic acid lên thành phần màng CIGS

3.21. Ảnh hưởng của nồng độ axit sulfamic lên thành phần màng mỏng CIGS trước khi xử lý nhiệt

3.22. Ảnh hưởng của nồng độ axit sulfamic lên thành phần màng mỏng CIGS sau khi xử lý nhiệt

3.23. Ảnh hưởng của nồng độ axit sulfamic lên độ dày, hình thái học và độ kết tinh màng CIGS

3.24. Chế tạo màng mỏng CIGS với hợp thức Cu(In0.3)Se2 và khảo sát đặc trưng quang điện

3.25. Thực nghiệm chế tạo màng mỏng CIGS với hợp thức Cu(In0.3)Se2 và khảo sát đặc trưng quang điện

3.26. Chế tạo màng mỏng CIGS với hợp thức Cu(In0.

3.27. Sự phụ thuộc vào điện thế của thành phần màng CIGS

3.28. Ảnh hưởng của nồng độ ion Cu2+ lên thành phần màng CIGS

3.29. Chế tạo thử nghiệm tế bào PMT đơn giản dựa trên màng mỏng CIGS với hợp thức Cu(In0.

3.30. Cấu tạo của PMT Al/CIGS/ITO/soda-lime glass

3.31. Nguyên lý hoạt động của PMT Al/CIGS/ITO/soda-lime glass

3.32. Khảo sát đặc trưng quang điện

3.33. KẾT LUẬN CHƯƠNG III

KẾT LUẬN CHUNG

DANH MỤC CÁC CÔNG TRÌNH KHOA HỌC CỦA TÁC GIẢ LIÊN QUAN ĐẾN LUẬN ÁN

TÀI LIỆU THAM KHẢO

Tóm tắt

I. Tổng quan về nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin CIGS

Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin CIGS (Copper Indium Gallium Selenide) đang trở thành một trong những lĩnh vực quan trọng trong công nghệ năng lượng tái tạo. Pin mặt trời CIGS được biết đến với hiệu suất chuyển đổi năng lượng cao và khả năng ứng dụng rộng rãi. Việc hiểu rõ về động học lắng đọng lớp hấp thụ sẽ giúp tối ưu hóa quy trình sản xuất và nâng cao hiệu suất của pin. Nghiên cứu này không chỉ giúp cải thiện chất lượng sản phẩm mà còn góp phần vào việc phát triển bền vững nguồn năng lượng mặt trời.

1.1. Đặc điểm và cấu trúc của pin mặt trời CIGS

Pin mặt trời CIGS có cấu trúc phức tạp với lớp hấp thụ chính là Cu(In,Ga)(Se,S)2. Lớp hấp thụ này có khả năng hấp thụ ánh sáng tốt, giúp tăng hiệu suất chuyển đổi năng lượng. Cấu trúc của pin CIGS cho phép tối ưu hóa quá trình lắng đọng, từ đó cải thiện tính chất quang điện của pin.

1.2. Tầm quan trọng của động học lắng đọng trong sản xuất pin CIGS

Động học lắng đọng ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng và hiệu suất của lớp hấp thụ. Việc nghiên cứu động học giúp xác định các yếu tố như tốc độ lắng đọng, nhiệt độ và áp suất, từ đó tối ưu hóa quy trình sản xuất. Điều này không chỉ giúp giảm chi phí mà còn nâng cao hiệu suất của pin mặt trời CIGS.

II. Thách thức trong nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin CIGS

Mặc dù có nhiều tiềm năng, nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin CIGS cũng gặp phải nhiều thách thức. Các vấn đề như sự đồng nhất của lớp hấp thụ, độ dày và tính chất quang điện của lớp lắng đọng cần được giải quyết. Những thách thức này đòi hỏi các nhà nghiên cứu phải tìm ra các phương pháp mới để cải thiện quy trình lắng đọng.

2.1. Vấn đề đồng nhất trong lớp hấp thụ CIGS

Đồng nhất của lớp hấp thụ là yếu tố quan trọng quyết định đến hiệu suất của pin. Sự không đồng nhất có thể dẫn đến các điểm yếu trong cấu trúc, ảnh hưởng đến khả năng hấp thụ ánh sáng và hiệu suất chuyển đổi năng lượng. Nghiên cứu cần tập trung vào việc phát triển các phương pháp lắng đọng đồng nhất hơn.

2.2. Ảnh hưởng của điều kiện lắng đọng đến tính chất quang điện

Điều kiện lắng đọng như nhiệt độ, áp suất và nồng độ dung dịch có thể ảnh hưởng lớn đến tính chất quang điện của lớp hấp thụ. Việc tối ưu hóa các điều kiện này là cần thiết để đạt được hiệu suất cao nhất cho pin CIGS. Các nghiên cứu cần thực hiện để xác định các điều kiện tối ưu cho quá trình lắng đọng.

III. Phương pháp nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin CIGS

Để nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin CIGS, nhiều phương pháp khác nhau đã được áp dụng. Các phương pháp này không chỉ giúp hiểu rõ hơn về quá trình lắng đọng mà còn cung cấp dữ liệu quan trọng để tối ưu hóa quy trình sản xuất.

3.1. Phương pháp lắng đọng điện hóa

Phương pháp lắng đọng điện hóa là một trong những kỹ thuật phổ biến nhất trong nghiên cứu lớp hấp thụ CIGS. Kỹ thuật này cho phép kiểm soát chính xác quá trình lắng đọng, từ đó cải thiện chất lượng lớp hấp thụ. Nghiên cứu đã chỉ ra rằng việc điều chỉnh các thông số điện hóa có thể nâng cao hiệu suất của pin.

3.2. Kỹ thuật quét vòng Cyclic Voltammetry CV

Kỹ thuật CV được sử dụng để nghiên cứu động học lắng đọng bằng cách theo dõi sự thay đổi dòng điện trong quá trình lắng đọng. Kỹ thuật này giúp xác định các thông số quan trọng như tốc độ lắng đọng và khả năng hấp thụ của lớp hấp thụ. Kết quả từ kỹ thuật CV cung cấp thông tin quý giá cho việc tối ưu hóa quy trình sản xuất.

IV. Kết quả nghiên cứu và ứng dụng thực tiễn của pin CIGS

Kết quả nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin CIGS đã chỉ ra rằng việc tối ưu hóa quy trình lắng đọng có thể nâng cao hiệu suất chuyển đổi năng lượng. Các ứng dụng thực tiễn của pin CIGS đang ngày càng mở rộng, từ các hệ thống năng lượng mặt trời nhỏ đến các dự án lớn.

4.1. Hiệu suất chuyển đổi năng lượng của pin CIGS

Hiệu suất chuyển đổi năng lượng của pin CIGS đã đạt được những bước tiến đáng kể nhờ vào việc tối ưu hóa động học lắng đọng. Các nghiên cứu cho thấy hiệu suất có thể đạt tới 20% trong điều kiện lý tưởng. Điều này mở ra cơ hội lớn cho việc ứng dụng pin CIGS trong các hệ thống năng lượng mặt trời.

4.2. Ứng dụng pin CIGS trong thực tiễn

Pin CIGS đang được ứng dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực, từ năng lượng tái tạo cho đến các thiết bị điện tử. Với khả năng linh hoạt trong thiết kế và sản xuất, pin CIGS có thể được sử dụng trong các ứng dụng như tấm lợp mái nhà, tấm ốp bề ngoài các tòa nhà, và các thiết bị di động. Điều này không chỉ giúp tiết kiệm chi phí mà còn góp phần vào việc bảo vệ môi trường.

V. Kết luận và triển vọng tương lai của nghiên cứu pin CIGS

Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin CIGS đang mở ra nhiều triển vọng cho tương lai. Với sự phát triển không ngừng của công nghệ, pin CIGS có thể trở thành một trong những nguồn năng lượng chính trong tương lai gần. Việc tiếp tục nghiên cứu và cải tiến quy trình sản xuất sẽ giúp nâng cao hiệu suất và giảm chi phí, từ đó thúc đẩy sự phát triển của năng lượng mặt trời.

5.1. Triển vọng phát triển công nghệ pin CIGS

Công nghệ pin CIGS đang trên đà phát triển mạnh mẽ với nhiều nghiên cứu mới được thực hiện. Các nhà khoa học đang tìm kiếm các vật liệu mới và phương pháp lắng đọng tiên tiến để nâng cao hiệu suất và độ bền của pin. Điều này hứa hẹn sẽ mang lại những bước tiến lớn trong lĩnh vực năng lượng tái tạo.

5.2. Tác động của pin CIGS đến môi trường

Pin CIGS không chỉ mang lại lợi ích về mặt kinh tế mà còn có tác động tích cực đến môi trường. Việc sử dụng năng lượng mặt trời giúp giảm thiểu khí thải carbon và bảo vệ môi trường. Nghiên cứu và phát triển pin CIGS sẽ góp phần vào việc xây dựng một tương lai bền vững hơn cho hành tinh.

16/08/2025
Luận án tiến sĩ nghiên cứu động học quá trình lắng đọng lớp hấp thụ của pin mặt trời màng cigs trong phương pháp điện hóa luận án ts vật lý nhiệt đào tạo thí điểm

Trích đoạn nội dung tài liệu

Chương 1: Tổng quan về pin mặt trời dựa trên lớp hấp thụ CIGS Chương 2: Phương pháp thực nghiệm Chương 3: Kết quả và thảo luận Kết luận chung Tài liệu tham khảo Các công trình khoa học của tác giả liên quan đến luận án 16 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com Các kết quả chính của luận án được công bố trong 06 bài báo, trong đó có 02 bài đăng trên tạp chí quốc tế và 04 bài đăng trên tạp chí trong nước, tham gia gửi bài 02 hội nghị quốc tế và 02 hội nghị trong nước. 17 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com CHƢƠNG I TỔNG QUAN VỀ PIN MẶT TRỜI DỰA TRÊN LỚP HẤP THỤ CIGS PMT màng mỏng được phát triển từ những năm 1970 với mục đích ban đầu là đạt được một tỉ lệ “công suất/trọng lượng” cao hơn cho các ứng dụng không gian vũ trụ. Ngày nay, động lực thúc đẩy cho sự phát triển PMT màng mỏng chủ yếu là tiềm năng của chúng trong việc giảm thiểu chi phí sản xuất và sử dụng vật liệu. Các PMT màng mỏng đầu tiên dựa trên cấu trúc Cu2S/CdS, chúng kém ổn định do độ khuếch tán cao của Cu.

Các pin silicon vô định hình (a-Si:H) bắt đầu thâm nhập vào thị trường PMT trong những năm 1980 nhưng đang ngày càng bị thách thức bởi PMT màng mỏng dựa trên CdTe và Cu(In,Ga)Se2. Một trong những vấn đề tồn tại của loại pin silicon vô định hình là hạn chế khả năng sử dụng của chúng trong ngành công nghiệp điện tử.1: Độ rộng vùng cấm thay đổi Hình 1.2: Sự phụ thuộc của hệ số hấp theo hằng số mạng của một số chất bán thụ α vào năng lượng photon của một số dẫn [81] chất bán dẫn [34] Hiệu suất cao nhất của PMT dựa trên lớp hấp thụ CuIn1-xGaxSe2 (viết tắt là Cu(In,Ga)Se2 hoặc CIGS) được công bố là 20.3% trong điều kiện chiếu sáng của ánh sáng mặt trời tự nhiên [64] và đạt 21.5% dưới ánh sáng mặt trời hội tụ [79]. 18 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com PMT CIGS được phát triển từ các pin đơn tinh thể CuInSe2 (CIS) vào những năm 1970, sau đó được chế tạo dưới dạng màng mỏng CIS và cuối cùng vào những năm 1990 trở thành PMT CIGS với sự bổ sung Ga. Sự bổ sung Ga là giải pháp để tăng độ rộng vùng cấm (nằm giữa CuInSe2 (1,04 eV) và CuGaSe2 (1,7 eV)) với một giá trị tối ưu (hình 1.1) và nâng cao hiệu suất chuyển đổi năng lượng [10], [68].

Một trong các ưu điểm vượt trội của pin CIGS so với pin đơn tinh thể Silic là ánh sáng mặt trời được hấp thụ với hiệu suất cao hơn trong hợp chất này nhờ cấu trúc vùng cấm thẳng của hợp chất CIGS (hình 1. Với độ dày cỡ vài micromet, lớp hấp thụ CIGS hấp thụ hầu hết các photon của ánh sáng mặt trời. Với những ưu điểm nổi trội như đã nêu trên mà ngày nay có rất nhiều nhóm nghiên cứu đang nỗ lực để phát triển công nghệ sản xuất PMT màng mỏng CIGS chất lượng, giá thành thấp. Nhóm chúng tôi cũng chọn lớp hấp thụ CIGS làm đối tượng nghiên cứu.

Chương này giới thiệu ngắn gọn về cấu trúc cơ bản và nguyên lý hoạt động của PMT màng mỏng CIGS, các tính chất của lớp CIGS và một số phương pháp lắng đọng để chế tạo lớp CIGS. Ngoài ra, phương pháp lắng đọng điện hóa một bước chế tạo màng mỏng CIGS và nhiệt động học quá trình lắng đọng điện hóa màng CIGS cũng được trình bày trong chương tổng quan này. Cấu trúc và nguyên lý hoạt động của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS 1. Cấu trúc cơ bản của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS PMT dạng CIGS có cấu trúc nhiều lớp, như được mô tả trên hình 1.

Ánh sáng được hấp thụ trong lớp CIGS. Lớp hấp thụ của PMT dạng CIGS thường được lắng đọng trên lớp dẫn điện đế Mo. Lớp Mo tạo nên một liên kết tốt với lớp đế thủy tinh và đóng vai trò như là mặt sau của lớp tiếp xúc điện. Nó còn đóng vai trò như một rào cản khuếch tán để kiểm soát sự khuếch tán của các phần tử từ lớp thủy tinh vào lớp hấp thụ.

Mặt trước của lớp tiếp xúc điện là lớp oxit dẫn điện trong suốt (TCO), thường là Al-ZnO được lắng đọng bằng phương pháp phún xạ hoặc lắng đọng hơi hóa học. 19 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com Lớp này cần phải trong suốt để cho phép ánh sáng mặt trời tiếp cận lớp hấp thụ và phải là chất dẫn tốt để giảm thiểu sự tổn thất dòng. Lớp đệm giúp điều chỉnh đáy vùng dẫn giữa lớp TCO và lớp hấp thụ. Nếu đáy vùng dẫn của hai lớp này bị lệch đáng kể (tức là không thẳng hàng) thì khả năng hoạt động của pin sẽ bị giảm [70].

Hiện nay pin CIGS có hiệu suất chuyển đổi cao nhất sử dụng lớp mỏng CdS làm lớp đệm. Lớp này thường được lắng đọng bằng phương pháp lắng đọng bể hóa học. Tuy nhiên, vì CdS rất độc hại nên cần hạn chế tối đa trong sử dụng. Hiện nay, người ta cũng tìm ra một số hợp chất thay thế CdS và chế tạo bằng nhiều phương pháp khác nhau như: In(OH)xSy, Zn(OH)xSy, ZnSe, ZnS bằng phương pháp CBD; ZnS, ZnSe bằng phương pháp bốc bay.3: Cấu trúc một PMT màng mỏng CIGS Tóm lại, một cấu trúc pin có hiệu suất chuyển đổi cao nhất hiện nay gồm có: lớp đế thủy tinh soda-lime, lớp dẫn điện đế Mo, lớp hấp thụ CIGS được chế tạo bằng phương pháp đồng bốc bay 3 bước, CdS được lắng đọng bể hóa học, lớp dẫn điện trong suốt Al-ZnO, lưới dẫn điện Ni/Al được chế tạo bằng phương pháp bốc bay chùm điện tử và lớp chống phản xạ MgF2 [18].

20 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail. Sơ đồ vùng năng lƣợng của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS Sơ đồ vùng năng lượng của một PMT có cấu trúc ZnO/CdS/CIGS được biểu diễn trong hình 1. Các photon có năng lượng nhỏ hơn 3,3 eV sẽ đi qua lớp cửa sổ ZnO. Những photon có năng lượng nằm trong khoảng từ 2,4 – 3,3 eV sẽ bị hấp thụ bởi lớp đệm CdS.

Sự hấp thụ của lớp đệm CdS có thể được hạn chế bằng cách giảm độ dày của lớp này hoặc pha tạp với các nguyên tố khác để tăng độ rộng vùng cấm. Hầu hết các photon sẽ đi đến lớp CIGS và bị hấp thụ mạnh ở lớp này. CIGS là chất bán dẫn có vùng cấm thẳng với hệ số hấp thụ ánh sáng rất lớn (1 × 105/cm) và do đó nó có độ dài hấp thụ rất ngắn. Độ rộng vùng cấm của lớp hấp thụ CIGS từ 1,0 – 1,7 eV tùy thuộc vào tỉ lệ In/Ga.

Độ rộng vùng cấm tối ưu của lớp này là 1,4 eV tương ứng với tỉ lệ In/Ga = 70/30 [1]. Giá trị này trùng với cực đại của phổ năng lượng mặt trời.4: Sơ đồ vùng năng lượng của PMT dạng ZnO/CdS/CIGS 1. Nguyên lý hoạt động của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS [23] PMT hoạt động dựa trên hiệu ứng quang điện trong của lớp tiếp xúc p-n khi được chiếu sáng. PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS thì lớp hấp thụ thường là bán dẫn loại p và lớp đệm (nằm trên lớp hấp thụ CIGS) là bán dẫn loại n.

Dưới ánh sáng mặt trời các nguyên tử trong chất bán dẫn sẽ hấp thụ các photon từ bức xạ mặt trời. Nếu năng lượng các photon đủ lớn, một điện tử ở vùng 21 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com hóa trị sẽ sử dụng năng lượng hấp thụ được để nhảy lên vùng dẫn (nơi nó được tự do). Năng lượng cần để điện tử nhảy từ vùng hóa trị lên vùng dẫn gọi là độ rộng vùng cấm của chất bán dẫn. Khi hai chất bán dẫn loại p và n được đặt tiếp xúc nhau sẽ tạo nên lớp tiếp xúc p-n thì các điện tử từ bán dẫn loại n sẽ khếch tán sang bán dẫn loại p để lại các lỗ trống.

Như vậy, các photon ánh sáng được hấp thụ trong lớp tiếp xúc p-n và tạo thành các cặp điện tử-lỗ trống. Nhờ có điện trường Utx của lớp tiếp xúc các điện tử tự do sẽ chạy qua lớp tiếp xúc p-n tới điện cực trong khi các lỗ trống thì chạy ngược lại và vì vậy tạo ra dòng điện (hình 1. Trong trường hợp không có mạch ngoài, do sự chênh lệch nồng độ hạt tải (điện tử và lỗ trống) ở hai điện cực của pin tạo ra một suất điện động, gọi là suất điện động của pin.5: Sự tạo thành dòng điện của các điện tử-lỗ trống Với một cấu trúc pin lý tưởng, lớp đệm có mật độ hạt tải nhiều hơn lớp hấp thụ, do đó vùng tích điện mở rộng sang vùng hấp thụ và như vậy việc tạo dòng sẽ được cải thiện. Hơn nữa, độ rộng vùng cấm của lớp đệm cần phải rộng sao cho hầu hết các bức xạ có thể đi đến lớp hấp thụ.

Để hạt tải được dịch chuyển dễ dàng thì các tiếp xúc ohmic ở lớp trước và lớp sau là rất cần thiết. Lớp tiếp xúc mặt trước, tức là ở phía trên của lớp đệm, càng trong suốt càng tốt. Thông thường đối với các pin ở phòng thí nghiệm, sự quy tụ dòng được thực hiện bởi lưới kim loại được lắng đọng trên bề mặt 22 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com của lớp tiếp xúc mặt trước. Lớp tiếp xúc mặt sau (hay là lớp đế) thường là 1 lớp kim loại không trong suốt, trừ khi cấu hình của pin là loại bán trong suốt.

Đặc trƣng dòng-thế (I-V) của PMT Đặc trưng dòng-thế của PMT có thể được mô tả bởi phương trình diode [5]:  q (V  RS J )  V  RS T J (V )  J 0  e AkT  1   J ph (1.1)   Rp trong đó: J - mật độ dòng, V - điện thế phân cực áp vào, J 0 - mật độ dòng bão hào, q - điện tích electron, RS - điện trở nối tiếp (tổng điện trở vật liệu bán dẫn khối, điện trở các tiếp xúc kim loại-bán dẫn, kim loại-kim loại) và R p - điện trở song song (đặc trưng cho ảnh hưởng của nồng độ tạp chất trong lớp hấp thụ, sự không hoàn hảo của bề mặt cũng như dòng điện rò bề mặt của PMT lên hoạt động của pin), A - hệ số phẩm chất của diode, kT - tích của hằng số Boltzmann và nhiệt độ tuyệt đối, J ph - dòng được sinh ra khi được chiếu ánh (xem hình 1.7: Mạch điện tương đương của một PMT thực Mạch điện tương đương của một PMT thực được biểu diễn trong hình 1. Một PMT lý tưởng sẽ không có R p và RS (tức là: Rs = 0 và Rp = ∞), phương trình (1.

Nội dung được bảo vệ bản quyền — Tải xuống đầy đủ