Tổng quan nghiên cứu
Năng lượng mặt trời là nguồn năng lượng tái tạo có tiềm năng lớn, đặc biệt tại Việt Nam với cường độ bức xạ trung bình ngày khoảng 5 kWh/m² và số giờ nắng trung bình từ 4.1 đến 6.9 giờ/ngày tùy vùng. Tuy nhiên, pin mặt trời thương mại hiện nay chủ yếu dựa trên vật liệu silic dạng khối với chi phí sản xuất cao và hiệu suất chuyển đổi năng lượng bị giới hạn. Do đó, nghiên cứu phát triển các thế hệ pin mặt trời mới với hiệu suất cao, chi phí thấp và tuổi thọ dài là cấp thiết.
Luận văn tập trung nghiên cứu chế tạo và khảo sát tính chất của pin mặt trời dựa trên cấu trúc lai dây nano silic (SiNW)/poly(3,4-ethylenedioxythiophene):polystyrene sulfonate (PEDOT:PSS)/graphen nhằm nâng cao hiệu suất chuyển đổi năng lượng. Mục tiêu cụ thể gồm: (i) nghiên cứu quy trình chế tạo pin mặt trời cấu trúc lai SiNW/PEDOT:PSS/graphen; (ii) tối ưu hóa sự kết hợp các tính chất đặc biệt của vật liệu SiNW và các vật liệu chức năng như polyme dẫn và graphen để cải thiện hiệu suất chuyển đổi. Nghiên cứu được thực hiện tại Viện Khoa học Vật liệu, Đại học Quốc gia Hà Nội trong giai đoạn 2019-2020.
Ý nghĩa của đề tài nằm ở việc phát triển công nghệ pin mặt trời cấu trúc lai vô cơ/hữu cơ với chi phí thấp hơn nhiều so với pin silic truyền thống, đồng thời tận dụng được tính chất ưu việt của vật liệu nano và graphen để tăng hiệu suất và độ bền của pin. Kết quả nghiên cứu góp phần thúc đẩy ứng dụng vật liệu graphen trong linh kiện quang điện tử tại Việt Nam, đồng thời mở ra hướng đi mới cho công nghệ năng lượng tái tạo.
Cơ sở lý thuyết và phương pháp nghiên cứu
Khung lý thuyết áp dụng
Luận văn dựa trên các lý thuyết và mô hình sau:
Hiệu ứng quang điện (photoelectric effect): Nguyên lý chuyển đổi ánh sáng thành điện năng trong pin mặt trời, bao gồm hiệu ứng quang điện ngoài và quang điện trong, tạo ra các điện tử tự do và lỗ trống mang điện.
Cấu trúc lai vô cơ/hữu cơ: Kết hợp vật liệu dây nano silic (SiNW) với polyme dẫn PEDOT:PSS và vật liệu nano carbon graphen để tận dụng ưu điểm của từng thành phần, như diện tích bề mặt lớn của SiNW, độ dẫn điện cao và tính linh hoạt của PEDOT:PSS, cùng tính chất điện tử ưu việt của graphen.
Mô hình cấu trúc pin mặt trời SiNW/PEDOT:PSS/graphen: SiNW tạo lớp tiếp giáp pn dạng lõi-vỏ với diện tích lớn, giảm hệ số phản xạ ánh sáng, trong khi PEDOT:PSS/graphen phủ lên bề mặt SiNW giúp tăng độ dẫn điện và cải thiện khả năng hấp thụ photon.
Các khái niệm chính bao gồm: dây nano silic (SiNW), polyme dẫn PEDOT:PSS, graphen biến tính (Gr-COOH), hiệu suất chuyển đổi quang điện (PCE), hệ số phản xạ, hiệu suất lượng tử ngoại (EQE).
Phương pháp nghiên cứu
Nguồn dữ liệu: Nghiên cứu sử dụng vật liệu Si loại N, graphen đa lớp biến tính bằng phương pháp hóa học với hỗn hợp axit HNO3/H2SO4, và hỗn hợp PEDOT:PSS/graphen được chế tạo bằng phương pháp rung siêu âm.
Phương pháp chế tạo:
- SiNW được tạo bằng phương pháp ăn mòn hóa học có trợ giúp kim loại (MACE) với dung dịch HF 4.02M, thời gian ăn mòn thay đổi từ 1 đến 60 phút để điều chỉnh chiều dài SiNW.
- Hỗn hợp PEDOT:PSS/graphen được phủ lên SiNW bằng phương pháp spin-coating, sau đó ủ nhiệt ở 140°C trong môi trường khí N2.
- Điện cực Ag và Al được tạo bằng phương pháp phún xạ.
Phương pháp phân tích:
- Kính hiển vi điện tử quét (SEM) để quan sát cấu trúc bề mặt và chiều dài SiNW.
- Phổ tán xạ Raman và phổ FTIR để xác định cấu trúc và nhóm chức của graphen biến tính.
- Phổ UV-VIS để khảo sát tính chất quang học của màng PEDOT:PSS/graphen.
- Phương pháp đo điện trở bốn mũi dò để xác định độ dẫn điện của màng.
- Đặc trưng J-V được đo bằng thiết bị Keithley 2400 để đánh giá hiệu suất pin mặt trời.
- Hiệu suất lượng tử ngoại (EQE) được đo để đánh giá khả năng chuyển đổi photon thành dòng điện.
Cỡ mẫu và timeline: Các mẫu pin mặt trời với nồng độ graphen khác nhau (0%, 0.3%, 0.5%, 0.7%) và chiều dài SiNW từ 125 nm đến 2000 nm được chế tạo và khảo sát trong khoảng thời gian nghiên cứu 2019-2020.
Kết quả nghiên cứu và thảo luận
Những phát hiện chính
Biến tính graphen: Phổ Raman cho thấy tỉ lệ ID/IG của graphen biến tính tăng từ 0.71 lên 0.85, chứng tỏ sự xuất hiện các nhóm chức COOH trên bề mặt. Phổ FTIR xác nhận sự có mặt của nhóm O-H (3434 cm⁻¹), C=O (1725 cm⁻¹) và C-O (1020, 1370 cm⁻¹), khẳng định thành công biến tính graphen.
Tính chất màng PEDOT:PSS/graphen: Màng mỏng có độ dày khoảng 50 nm, độ truyền qua tại 550 nm giảm từ 86.2% (không có graphen) xuống còn khoảng 70% với 0.5% graphen. Độ dẫn điện tăng lên tối đa 1,176 S/m tại 0.5% graphen, sau đó giảm do hiện tượng kết đám. Đây là nồng độ tối ưu để chế tạo pin mặt trời.
Ảnh hưởng của chiều dài SiNW: Chiều dài SiNW tăng từ 125 nm đến 2000 nm, tốc độ ăn mòn khoảng 133 nm/phút. SiNW dài hơn 800 nm có xu hướng tụ đám, làm giảm khả năng xâm nhập của PEDOT:PSS/graphen. Hệ số phản xạ giảm từ 38% (đế Si phẳng) xuống còn 5% với SiNW dài trên 800 nm, cho thấy khả năng giam giữ ánh sáng tốt hơn.
Hiệu suất pin mặt trời:
- Với nồng độ graphen 0.5%, hiệu suất chuyển đổi pin mặt trời n-Si/PEDOT:PSS/graphen đạt 4.36%, cao hơn 18% so với pin không có graphen (3.69%).
- Pin mặt trời SiNW/PEDOT:PSS/graphen với SiNW dài 400 nm đạt hiệu suất cao nhất 8.16%, với Jsc ≈ 26.86 mA/cm², Voc ≈ 0.48 V và FF ≈ 63%. EQE đạt 50-55% trong dải 300-700 nm.
- Hiệu suất giảm khi SiNW dài hơn 400 nm do hiện tượng tụ đám và tăng tái hợp hạt tải.
Thảo luận kết quả
Hiệu suất chuyển đổi pin mặt trời được cải thiện rõ rệt nhờ sự kết hợp cấu trúc lai SiNW/PEDOT:PSS/graphen. SiNW tạo diện tích tiếp giáp lớn và giảm hệ số phản xạ, tăng khả năng hấp thụ ánh sáng. PEDOT:PSS/graphen tăng độ dẫn điện và cải thiện sự phân tán vật liệu, giúp tăng hiệu suất chuyển đổi.
Sự tụ đám của SiNW khi chiều dài vượt quá 800 nm làm giảm khả năng xâm nhập của lớp polyme dẫn, gây giảm hiệu suất. EQE và Jsc có mối quan hệ mật thiết, phản ánh hiệu quả chuyển đổi photon thành dòng điện. Kết quả phù hợp với các nghiên cứu quốc tế về pin mặt trời cấu trúc lai vô cơ/hữu cơ, đồng thời khẳng định vai trò quan trọng của graphen biến tính trong việc nâng cao hiệu suất.
Dữ liệu có thể được trình bày qua biểu đồ phổ Raman, FTIR, UV-VIS, đồ thị J-V và EQE để minh họa sự thay đổi tính chất vật liệu và hiệu suất pin theo nồng độ graphen và chiều dài SiNW.
Đề xuất và khuyến nghị
Tối ưu hóa nồng độ graphen: Khuyến nghị sử dụng nồng độ graphen khoảng 0.5% trong hỗn hợp PEDOT:PSS để đạt độ dẫn điện và hiệu suất chuyển đổi tối ưu. Thời gian nghiên cứu tiếp theo nên tập trung vào cải thiện sự phân tán và ổn định của graphen trong polyme.
Kiểm soát chiều dài SiNW: Đề xuất kiểm soát chiều dài SiNW khoảng 400 nm để cân bằng giữa khả năng giam giữ ánh sáng và vận chuyển hạt tải, tránh hiện tượng tụ đám làm giảm hiệu suất. Chủ thể thực hiện là nhóm nghiên cứu vật liệu nano và kỹ thuật chế tạo.
Nâng cao độ bền và ổn định: Nghiên cứu sâu hơn về sự ổn định của pin mặt trời SiNW/PEDOT:PSS/graphen dưới điều kiện nhiệt độ và độ ẩm khác nhau, nhằm đảm bảo tuổi thọ và hiệu suất lâu dài. Thời gian thực hiện dự kiến 1-2 năm.
Cải thiện độ dẫn điện: Áp dụng các chất hoạt động bề mặt hoặc phụ gia để tăng độ dẫn điện của hỗn hợp PEDOT:PSS/graphen, từ đó nâng cao hiệu suất pin. Chủ thể thực hiện là các nhóm nghiên cứu hóa học vật liệu.
Nghiên cứu ứng dụng chấm lượng tử graphen (GQD): Khai thác tính chất quang điện của GQD để tăng hiệu suất chuyển đổi, mở rộng phạm vi hấp thụ ánh sáng. Đây là hướng nghiên cứu tiềm năng trong 3-5 năm tới.
Đối tượng nên tham khảo luận văn
Nhà nghiên cứu vật liệu năng lượng: Luận văn cung cấp dữ liệu chi tiết về chế tạo và tối ưu hóa pin mặt trời cấu trúc lai SiNW/PEDOT:PSS/graphen, hỗ trợ phát triển công nghệ pin mặt trời thế hệ mới.
Kỹ sư công nghệ chế tạo pin mặt trời: Tham khảo quy trình chế tạo SiNW bằng phương pháp ăn mòn hóa học và phủ lớp polyme dẫn, giúp cải tiến quy trình sản xuất pin mặt trời hiệu quả và tiết kiệm chi phí.
Chuyên gia phát triển vật liệu nano: Nghiên cứu biến tính graphen và ứng dụng trong vật liệu lai hữu cơ/vô cơ, mở rộng ứng dụng của graphen trong lĩnh vực quang điện tử.
Nhà hoạch định chính sách năng lượng tái tạo: Cung cấp cơ sở khoa học và công nghệ để thúc đẩy phát triển năng lượng mặt trời tại Việt Nam, góp phần vào chiến lược an ninh năng lượng và giảm phát thải khí nhà kính.
Câu hỏi thường gặp
Tại sao chọn cấu trúc lai SiNW/PEDOT:PSS/graphen cho pin mặt trời?
Cấu trúc lai kết hợp ưu điểm của SiNW về diện tích bề mặt và khả năng hấp thụ ánh sáng, PEDOT:PSS về dẫn điện và tính linh hoạt, cùng graphen với độ dẫn điện cao và ổn định, giúp nâng cao hiệu suất chuyển đổi và giảm chi phí sản xuất.Phương pháp chế tạo SiNW có ưu điểm gì?
Phương pháp ăn mòn hóa học (MACE) sử dụng dung dịch HF 4.02M đơn giản, chi phí thấp, dễ thực hiện ở nhiệt độ phòng và có thể kiểm soát chiều dài SiNW bằng thời gian ăn mòn, phù hợp cho sản xuất quy mô lớn.Nồng độ graphen ảnh hưởng thế nào đến hiệu suất pin?
Nồng độ graphen tối ưu là khoảng 0.5%, giúp tăng độ dẫn điện và cải thiện hiệu suất chuyển đổi lên 4.36% so với 3.69% không có graphen. Nồng độ cao hơn gây kết đám, giảm độ dẫn và hiệu suất.Chiều dài SiNW ảnh hưởng ra sao đến hiệu suất?
SiNW dài khoảng 400 nm cho hiệu suất cao nhất (8.16%) do cân bằng được khả năng giam giữ ánh sáng và vận chuyển hạt tải. SiNW dài hơn gây tụ đám, tăng tái hợp hạt tải, làm giảm hiệu suất.Luận văn có đề xuất hướng nghiên cứu nào tiếp theo?
Nghiên cứu sâu hơn về vai trò của graphen, cải thiện độ dẫn điện của hỗn hợp PEDOT:PSS/graphen, nâng cao độ bền pin dưới điều kiện môi trường, và ứng dụng chấm lượng tử graphen để tăng hiệu suất pin mặt trời.
Kết luận
- SiNW được chế tạo bằng phương pháp ăn mòn hóa học với tốc độ khoảng 133 nm/phút, chiều dài có thể điều chỉnh bằng thời gian ăn mòn.
- Nồng độ graphen 0.5% trong hỗn hợp PEDOT:PSS/graphen tối ưu cho hiệu suất chuyển đổi pin mặt trời, đạt 4.36% trên cấu trúc n-Si/PEDOT:PSS/graphen.
- Chiều dài SiNW ảnh hưởng lớn đến hiệu suất; 400 nm là chiều dài tối ưu cho pin mặt trời SiNW/PEDOT:PSS/graphen với hiệu suất 8.16%.
- Hiệu suất pin mặt trời cải thiện nhờ giảm hệ số phản xạ, tăng diện tích tiếp giáp và độ dẫn điện của vật liệu lai.
- Nghiên cứu mở rộng về độ bền, cải thiện vật liệu và ứng dụng chấm lượng tử graphen là các bước tiếp theo cần thực hiện.
Hành động tiếp theo: Khuyến khích các nhóm nghiên cứu và doanh nghiệp năng lượng tái tạo áp dụng kết quả này để phát triển pin mặt trời hiệu suất cao, chi phí thấp, góp phần thúc đẩy chuyển đổi năng lượng bền vững tại Việt Nam.