phần mở đầu thì hiện đã có nhiều phương pháp để chế tạo các hệ vi nam châm, nhưng phương pháp điển hình được sử dụng nhiều trong thực tế đó là: phương pháp phún xạ kết hợp với phương pháp quang khắc, và gần đây là phương pháp in phun đang được quan tâm nghiên cứu. Do mỗi phương pháp đều có ưu và nhược điểm riêng và với mục đích chế tạo ra các hệ vi nam châm với thời gian ngắn, ít tốn kém và chính xác thì việc sử dụng phương pháp in phun là điều nên được quan tâm nghiên cứu và đưa vào thực tế. Để hiểu hơn về các phương pháp điển hình nêu trên dùng để chế tạo các hệ vi nam châm thì ở mục này tôi sẽ trình bày sơ lược về hai phương pháp phún xạ, phương pháp quang khắc. Đồng thời, trình bày chi tiết về phương pháp in phun để qua đó khi đi vào phần thực nghiệm thì chúng ta sẽ hiểu rõ hơn về thiết bị, vật liệu in cũng như quy trình hoạt động của hệ thiết bị.
Phương pháp phún xạ Phương pháp phún xạ (sputtering) là một kỹ thuật chế tạo màng mỏng dựa trên nguyên lý truyền động năng, sử dụng các ion có năng lượng cao ( các ion thường dùng là Xe, Ar, Kr) để bắn phá lên bề mặt các bia vật liệu rắn, vật liệu từ bia sẽ được bốc bay ở dạng hơi nguyên tử, phân tử và ion (trạng thái plasma) sau đó sẽ được lắng đọng trên đế để tạo thành các lớp màng (xem hình 1. Các ion khí trơ sẽ được gia tốc trong điện trường (có thể là một chiều đối với bia là kim loại với điện áp đặt vào từ 3 – 5 kV, hoặc điện áp xoay chiều đối với bia là oxit với tần số 14 MHz), năng lượng của ion khí trơ phụ thuộc vào điện tích, mức độ gia tốc trong điện trường và khối lượng của ion khí trơ. Chỉ có một số loại khí trơ có thể đáp ứng được yêu cầu nêu trên và ảnh hưởng của các điện tử trong quá trình phún xạ là không đáng kể do có khối lượng nhỏ. Phương pháp phún xạ được dùng để chế tạo một số loại màng, với vật liệu thông dụng là kim loại, hợp kim và một số loại oxit.
Kết hợp phương pháp này với các kỹ thuật tiểu hình hóa người ta có thể tạo ra được các cấu trúc vật liệu có hình dạng đặc biệt theo các kích thước khác nhau, thường ở dải µm. 10 LUAN VAN CHAT LUONG download : add luanvanchat@agmail. Chế tạo màng mỏng bằn p ươn p p p ún xạ [4] Ưu điểm của việc chế tạo màng bằng phương pháp phún xạ là có độ ổn định và dễ lặp lại. Nhược điểm của phương pháp này đó là kích thước bia lớn nên giá thành cao, hiệu suất sử dụng bia thấp, khó kiểm soát được tốc độ nếu tạo màng mỏng, thành phần hóa học của màng sau chế tạo có thể khác với thành phần hợp thức của bia bốc bay [4].
Phương pháp quang khắc Quang khắc là kỹ thuật được sử dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn và công nghệ vật liệu để tạo ra các chi tiết màng mỏng hoặc khối vật liệu đế với hình dạng và kích thước xác định. Phương pháp này sử dụng bức xạ ánh sáng để làm biến tính các chất cảm quang phủ trên bề mặt đế từ đó tạo ra được các hình ảnh cần thiết. Sơ đồ nguyên lý hệ quang khắc Như ta thấy trên hình 1.6 thì một hệ quang khắc thông thường bao gồm một nguồn phát tia UV, chùm tia UV này sẽ được khuếch đại sau đó chiếu qua một mặt nạ (photomask – là một màng chắn sáng được in lên đó các chi tiết cần tạo (được che 11 LUAN VAN CHAT LUONG download : add luanvanchat@agmail.com sáng – che không cho ánh sáng chiếu vào vùng cảm quang để tạo ra hình ảnh của chi tiết trên phần cảm quang biến tính)). Chùm tia UV sau đó được hội tụ bởi một hệ thấu kính lên trên bề mặt đế đã phủ chất cảm quang.
Kỹ thuật liff-off b. Kỹ thuật ăn mòn Hình 1. C c p ươn p p tạo chi tiết trong quang khắc.7 biểu diễn các kỹ thuật quang khắc liff-off và ăn mòn. Quá trình quang khắc thường được chia làm một số bước như sau : - Trước tiên bề mặt của đế cần chế tạo sẽ được xử lý bề mặt hay làm sạch để loại bỏ các chất vô cơ hoặc hữu cơ bám trên bề mặt, phương thức làm sạch ở đây thường là phương thức hóa học ướt, một ví dụ làm sạch điển hình đó là làm sạch theo quy trình RCA dựa trên các dung dịch có chứa hydrogen peroxide (H2O2) hoặc cũng có thể làm sạch bằng cồn hoặc methanol [11].
- Tiếp theo, đế sẽ được sấy ở 150oC trong vòng 10 phút để làm giảm bớt độ ẩm trên bề mặt đế. Đồng thời một chất lỏng hoặc khí chẳng hạn như Bis (trimethylsilyl ) amin (hexamethyldisilazane – HMDS [(CH3)3Si]2NH ) được sử dụng để tăng độ kết dính giữa chất cảm quang và bề mặt đế. Lớp SiO2 trên đế sẽ phản ứng với HMDS để tạo ra silic dioxide tri-methyl, đây là một lớp có khả năng chống thấm nước cao ngăn không cho nước thâm nhập vào giữa lớp photoresist và bề mặt đế. Để đảm bảo quá trình tạo ảnh tốt nhất thì đế cần được che phủ và để ở trên một tấm gia nhiệt ở nhiệt độ 120oC [12].
- Sau đó, sẽ được phủ một lớp hợp chất hữu cơ được gọi là chất cảm quang (photoresist), có tính nhạy quang (tính chất sẽ bị thay đổi khi được chiếu bởi 12 LUAN VAN CHAT LUONG download : add luanvanchat@agmail.com các bức xạ phù hợp) và bền trong môi trường kiềm hay axit. Chất cảm quang có vai trò bảo vệ các chi tiết cần chế tạo không bị ăn mòn dưới tác dụng của quá trình ăn mòn. Chất cản quang thường được phủ lên bề mặt đế bởi quá trình quay phủ (spin-coating). Thông thường chất cảm quang được chia làm hai loại là cảm quang dương (bản chất của chất cảm quang dương là polime sau khi bị tác động của tia UV sẽ bị biến tính thành các monome và sẽ bị rửa trôi bởi các dung dịch ăn mòn) và cảm quang âm ( ngược lại với cảm quang dương thì cảm quang âm lại bản chất là các monome sau khi bị tác động của tia UV sẽ bị biến tính thành polime và sẽ không bị rửa trôi bởi các dung dịch ăn mòn).
- Sau quá trình phủ photoresist sẽ là quá trình chiếu tia UV để làm biến tính các phần chi tiết cần chế tạọ. - Tiếp theo, một hợp chất hóa học gọi là developer thường sử dụng như tetramethylammonium hydroxide (TMAH - N(CH3)4+ OH−) sẽ được phủ lên đế cũng bởi phương pháp spin-coating và đế lúc này được sấy cứng ở nhiệt độ khoảng từ 120oC – 180oC trong vòng 20 – 30 phút để khiến lớp phủ trở nên bền trong quá trình ăn mòn ướt (etching). - Sau quá trình tạo ảnh (deverloping) là quá trình ăn mòn. Trong khi ăn mòn thì sẽ có một hóa chất được sử dụng để loại bỏ lớp trên cùng của đế tại những vị trí mà không được lớp cảm quang bảo vệ.
- Sau cùng là loại bỏ chất cảm quang để thu được chi tiết theo yêu cầu. Hóa chất thường được sử dụng để loại bỏ chất cảm quang trong ăn mòn ướt đó là 1- Methyl-2-pyrrolidone (NMP- C5H9NO) [12]. Ưu điểm của phương pháp này là cho phép chế tạo các chi tiết nhỏ cỡ micromet với hình dạng theo ý muốn. Nhược điểm của phương pháp này là gồm nhiều bước thực hiện, phức tạp và tốn kém.
Phương pháp in phun In phun (inkjet printing) là một quá trình lắng đọng, chuyển vật liệu cần chế tạo từ dạng trong pha lỏng lắng đọng lên trên một đế rắn. Pha lỏng thường là các loại mực in bao gồm dung môi hòa tan và các hạt vật liệu cần chế tạo được hòa tan trong dung môi. Dung dịch in được chứa trong hộp mực in, đặt trong buồng phun. Từ một vòi 13 LUAN VAN CHAT LUONG download : add luanvanchat@agmail.com phun thì giọt mực sẽ được phun ra một cách đột ngột thông qua sự thay đổi thể tích của buồng phun gây bởi hiệu ứng áp điện do sự điều chỉnh của một hiệu điện thế bên ngoài.
Khi các giọt mực phun ra, dưới dụng của trọng lực và sức cản của không khí, chúng sẽ được in lên đế. Sự lan ra của giọt mực gây ra bởi momen quán tính của nó và sức căng bề mặt dọc theo bề mặt đế. Giọt mực được in ra sau đó sẽ bị khô đi do có sự bốc bay của dung dịch (xem hình 1. Sự lan ra của giọt mực và hình dạng cuối cùng của giọt mực bị ảnh hưởng lớn bởi độ nhớt mực in.
Quy trình chế tạo vi cấu trúc bằn p ươn p p n p un Đã có những nghiên cứu chỉ ra sự tác động của xung điện lên thời gian tạo ra giọt mực, hình thái học của giọt mực, độ nhớt, và kích thước của giọt mực. Các nghiên cứu này đã chỉ ra rằng các giọt mực nhớt hơn có hiệu điện thế để bắt đầu phun ra cao hơn, nên tạo ra cột chất lỏng cao hơn và các giọt nhỏ hơn. Bên dưới là hình ảnh mô tả quá trình bốc bay dung dịch của giọt mực sau khi in ra (hình 1. Quá trình khô của giọt mực sau k được in phun (Mũ tên m u xan c ỉ sự bốc bay của dung dịc mũ tên m u đen c ỉ dòn đố lưu ướn ra n o mũ tên đỏ chỉ dòng ướng vào trong) 14 LUAN VAN CHAT LUONG download : add luanvanchat@agmail.com Quá trình khô của giọt mực sẽ bị ảnh hưởng bởi độ nhớt của mực, độ linh động của chất tan thông qua chuyển động của dung môi.
Chuyển động của chất tan lúc này bị ảnh hưởng bởi tương tác sức căng bề mặt của dung môi và đế. Kết quả là sẽ gây nên hiệu ứng Coffee-ring, tức là giọt mực sau khi khô sẽ có hình vòng tròn [13]. Ưu điểm của phương pháp in phun đó là cho phép chế tạo các màng mỏng, các hệ vi cấu trúc với thời gian ngắn, ít tốn kém, và có thể chế tạo được các hệ vi cấu trúc với nhiều hình dạng phức tạp. Nhược điểm của phương pháp này đó là việc chế tạo dung dịch mực in theo yêu cầu thực tế còn gặp phải nhiều khó khăn.
Trong phần thực nghiệm của luận văn này, chúng tôi sẽ trình bày cụ thể hơn về cách thức chế tạo mực in và cách kiểm soát quá trình in phun. 15 LUAN VAN CHAT LUONG download : add luanvanchat@agmail.