Nghiên Cứu Tính Chất Nhiệt Điện Của Màng Mỏng ZnO Đồng Pha Ga và In

Luận án tiến sĩ nghiên cứu tính chất nhiệt điện của màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In. Tìm hiểu ảnh hưởng của việc đồng pha đến hiệu suất nhiệt điện.

Trường đại học

Vietnam National University - Ho Chi Minh University of Science

Chuyên ngành

Materials Science

Người đăng

Ẩn danh

Thể loại

Doctoral Thesis

2024

186
13
0

Phí lưu trữ

45 Point

Mục lục chi tiết

Declaration

Acknowledgments

1. CHAPTER 1: Overview and motivation. Evaluation of thermoelectric performance. Dimensionless figure of merit and power factor. Quality factor. Trade-offs among TE parameters

1.1. Seebeck coefficient

1.2. Density-of-state (DOS) effective mass. Optimization problem. Thermoelectric ZnO materials

1.3. Suitability for power-generation applications. Research literature and motivation

1.4. Thin-film materials

1.5. Scientific ideas and purposes

1.6. Dimension reduction approach

1.7. Synthesis techniques. Experiments and methodologies

2. CHAPTER 2: Materials and composition calculation. Bulk material synthesis. Thin-film synthesis

2.1. Fabrication of sputtering targets. Deposition process

2.2. X-ray photoelectron spectroscopy. Photoluminescence spectroscopy. Seebeck and resistivity measurement. Hall effect-based measurement. Laser flash analysis

2.3. Time-domain thermoreflectance. Differential scanning calorimetry

2.4. Other analysis techniques

3. CHAPTER 3: Compensation of Zn substitution and secondary phase segregation in thermoelectric IGZO bulk materials

3.1. Elemental binding energy analysis

3.2. Lattice defect evaluation

3.3. Electrical and thermopower properties

3.4. Thermoelectric quality factor and figure of merit

3.5. Lattice-defect engineering in thermoelectric IGZO thin films

3.6. Dual-doping strategy

3.7. Composition and binding energy analyses

3.8. Microcrystalline structure and morphology

3.9. Electrical and thermopower properties

3.10. Thermal properties and thermoelectric performance

3.11. Chemical binding state and structural analysis

3.12. Energy band structure and point defects

5. CHAPTER 5: Fermi-level and band structure modification in thermoelectric properties of IGZO thin films

5.1. Crystallography, band structure, and Fermi-level position

5.2. Morphology and microstructure

5.3. Power factor components and band flattening

5.4. Thermal components and thermoelectric performance

Conclusions and future works

List of related publications

Tóm tắt

I. Tổng Quan Nghiên Cứu Tính Chất Nhiệt Điện Màng Mỏng ZnO

Nghiên cứu tính chất nhiệt điện của vật liệu đang ngày càng trở nên quan trọng do nhu cầu năng lượng tái tạothu hồi nhiệt thải tăng cao. Màng mỏng ZnO là một vật liệu đầy hứa hẹn trong lĩnh vực này nhờ tính chất bán dẫn, độ bền hóa học và khả năng chế tạo với chi phí tương đối thấp. Việc đồng pha GaIn vào màng mỏng ZnO là một phương pháp hiệu quả để điều chỉnh các tính chất điện và nhiệt, từ đó tối ưu hóa hiệu suất chuyển đổi năng lượng. Nghiên cứu này tập trung vào việc khám phá và tối ưu hóa các thông số chế tạo để đạt được tính chất nhiệt điện tốt nhất cho màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In. Đây là một bước tiến quan trọng trong việc phát triển các thiết bị nhiệt điện màng mỏng hiệu quả.

1.1. Giới Thiệu Về Vật Liệu Nhiệt Điện ZnO Ưu Việt

Vật liệu nhiệt điện có khả năng chuyển đổi trực tiếp giữa nhiệt năng và điện năng thông qua hiệu ứng Seebeckhiệu ứng Peltier. ZnO là một oxide bán dẫn có nhiều ưu điểm như độ bền, khả năng chế tạo đơn giản và chi phí thấp. Tuy nhiên, tính chất nhiệt điện của ZnO nguyên chất còn hạn chế. Vì vậy, việc nghiên cứu đồng pha các nguyên tố như GaIn là rất quan trọng để cải thiện hiệu suất.

1.2. Mục Tiêu Nghiên Cứu Tối Ưu Màng Mỏng ZnO Nhiệt Điện

Mục tiêu chính của nghiên cứu này là tạo ra màng mỏng ZnOtính chất nhiệt điện được cải thiện thông qua việc đồng pha GaIn. Các thông số như hệ số Seebeck, độ dẫn điện, và độ dẫn nhiệt sẽ được điều chỉnh để đạt được hiệu suất chuyển đổi năng lượng cao nhất. Nghiên cứu cũng tập trung vào việc tìm hiểu cơ chế ảnh hưởng của GaIn đến các tính chất này.

II. Vấn Đề Hạn Chế Tính Chất Nhiệt Điện Của ZnO Nguyên Chất

ZnO nguyên chất có độ dẫn nhiệt cao và hệ số Seebeck thấp, dẫn đến hiệu suất nhiệt điện kém. Việc cải thiện tính chất nhiệt điện của ZnO là một thách thức lớn. Các nghiên cứu trước đây đã chỉ ra rằng việc pha tạp các nguyên tố khác nhau có thể thay đổi cấu trúc điện tử và phonon, từ đó ảnh hưởng đến độ dẫn điệnđộ dẫn nhiệt. Tuy nhiên, việc lựa chọn nguyên tố pha tạp và kiểm soát nồng độ pha tạp vẫn là một vấn đề cần được giải quyết.

2.1. Tại Sao Cần Cải Thiện Hiệu Suất Vật Liệu ZnO Nhiệt Điện

Việc cải thiện hiệu suất nhiệt điện của ZnO có ý nghĩa to lớn trong việc tận dụng năng lượng tái tạo và giảm thiểu nhiệt thải. Các thiết bị nhiệt điện hiệu quả có thể chuyển đổi nhiệt thải từ các quá trình công nghiệp, ô tô, và các nguồn nhiệt khác thành điện năng, giúp tiết kiệm năng lượng và bảo vệ môi trường. Nghiên cứu vật liệu hiệu quả là rất quan trọng.

2.2. Thách Thức Trong Chế Tạo Màng Mỏng ZnO Pha Tạp Tối Ưu

Việc chế tạo màng mỏng ZnO pha tạp với tính chất nhiệt điện tối ưu đòi hỏi kiểm soát chặt chẽ các thông số chế tạo như nồng độ pha tạp, nhiệt độ, áp suất, và tốc độ lắng đọng. Sự phân bố đồng đều của các nguyên tố pha tạp trong màng mỏng cũng là một yếu tố quan trọng ảnh hưởng đến tính chất nhiệt điện. Cần có các phương pháp chế tạo màng mỏng tiên tiến và các kỹ thuật phân tích hiện đại để giải quyết thách thức này.

III. Phương Pháp Đồng Pha Ga và In Giải Pháp Tối Ưu ZnO

Việc đồng pha GaIn vào màng mỏng ZnO là một phương pháp hứa hẹn để cải thiện tính chất nhiệt điện. GaIn có thể thay đổi cấu trúc điện tửphonon của ZnO, từ đó ảnh hưởng đến độ dẫn điệnđộ dẫn nhiệt. Sự kết hợp của GaIn có thể tạo ra hiệu ứng synergic, mang lại kết quả tốt hơn so với việc pha tạp một nguyên tố duy nhất. Việc kiểm soát nồng độ pha tạp của GaIn là rất quan trọng để đạt được tính chất nhiệt điện tối ưu.

3.1. Ảnh Hưởng Của Ga và In Đến Cấu Trúc Điện Tử và Phonon ZnO

GaIn có kích thước ion và độ âm điện khác nhau so với Zn, do đó khi thay thế Zn trong cấu trúc tinh thể ZnO, chúng sẽ tạo ra sự biến dạng mạng và thay đổi mật độ trạng thái điện tử. Điều này ảnh hưởng đến khả năng dẫn điện và tán xạ phonon, từ đó thay đổi tính chất nhiệt điện.

3.2. Kiểm Soát Nồng Độ Pha Tạp Ga và In Để Tối Ưu Hiệu Suất

Việc kiểm soát chính xác nồng độ pha tạp của GaIn là rất quan trọng để đạt được tính chất nhiệt điện tối ưu. Nồng độ pha tạp quá thấp có thể không đủ để tạo ra sự thay đổi đáng kể trong cấu trúc điện tửphonon, trong khi nồng độ pha tạp quá cao có thể dẫn đến sự hình thành các pha thứ cấp và làm giảm độ dẫn điện. Cần có các nghiên cứu thực nghiệm và mô phỏng để xác định nồng độ pha tạp tối ưu.

3.3 Lựa Chọn Phương Pháp Chế Tạo Màng Mỏng Phún xạ PLD ALD

Các phương pháp chế tạo màng mỏng như phún xạ, PLD (Pulsed Laser Deposition)ALD (Atomic Layer Deposition) có ảnh hưởng lớn đến cấu trúc, tính chấthiệu suất của màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In. Mỗi phương pháp có ưu và nhược điểm riêng, và việc lựa chọn phương pháp phù hợp phụ thuộc vào yêu cầu cụ thể của ứng dụng. Phún xạ thường được sử dụng vì tính đơn giản và khả năng chế tạo màng mỏng diện tích lớn. PLD cho phép kiểm soát tốt nồng độ pha tạpcấu trúc của màng. ALD có khả năng tạo ra màng mỏng đồng đều và có độ che phủ tốt.

IV. Kết Quả Phân Tích Tính Chất Nhiệt Điện Màng Mỏng Ga In ZnO

Các kết quả nghiên cứu cho thấy việc đồng pha GaIn vào màng mỏng ZnO có thể cải thiện đáng kể hệ số Seebeckđộ dẫn điện, đồng thời giảm độ dẫn nhiệt. Cấu trúc tinh thể, nồng độ pha tạp, và phương pháp chế tạo đều có ảnh hưởng lớn đến tính chất nhiệt điện. Các kết quả này cung cấp cơ sở khoa học cho việc phát triển các thiết bị nhiệt điện màng mỏng hiệu quả.

4.1. Ảnh Hưởng của Nhiệt Độ Đến Hệ Số Seebeck và Độ Dẫn Điện

Hệ số Seebeckđộ dẫn điện của màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In thường thay đổi theo nhiệt độ. Ở nhiệt độ thấp, hệ số Seebeck có thể tăng lên do sự gia tăng của mật độ trạng thái điện tử gần mức Fermi. Ở nhiệt độ cao, độ dẫn điện có thể giảm do sự gia tăng của tán xạ phonon. Việc nghiên cứu sự phụ thuộc của các tính chất này vào nhiệt độ là rất quan trọng để tối ưu hóa hiệu suất của thiết bị nhiệt điện.

4.2. Phân Tích Cấu Trúc Tinh Thể Bằng Phương Pháp XRD

Phương pháp XRD (Nhiễu xạ tia X) được sử dụng để phân tích cấu trúc tinh thể của màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In. Các kết quả XRD có thể cung cấp thông tin về kích thước tinh thể, ứng suất dư, và sự có mặt của các pha thứ cấp. Sự thay đổi trong cấu trúc tinh thể do pha tạp có thể ảnh hưởng đến tính chất nhiệt điện.

4.3 Xác Định Độ Dẫn Nhiệt Bằng Kỹ Thuật TDTR

Kỹ thuật TDTR (Time-Domain Thermoreflectance) được sử dụng để xác định độ dẫn nhiệt của màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In. TDTR là một phương pháp chính xác và nhạy cảm để đo độ dẫn nhiệt của màng mỏng, đặc biệt là các màng có độ dày nhỏ. Việc giảm độ dẫn nhiệt là một yếu tố quan trọng để cải thiện hiệu suất nhiệt điện.

V. Ứng Dụng Tiềm Năng Ứng Dụng Thiết Bị Nhiệt Điện Màng Mỏng

Màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In có tiềm năng ứng dụng rộng rãi trong các thiết bị nhiệt điện màng mỏng. Các thiết bị này có thể được sử dụng để thu hồi nhiệt thải từ các nguồn nhiệt khác nhau, từ đó tạo ra điện năng. Với kích thước nhỏ gọn và khả năng tích hợp dễ dàng, các thiết bị nhiệt điện màng mỏng có thể được sử dụng trong các ứng dụng như cảm biến, điện tử di động, và thiết bị y tế.

5.1. Ứng Dụng Trong Các Thiết Bị Cảm Biến Nhiệt Độ Miniaturized

Màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In có thể được sử dụng để chế tạo các cảm biến nhiệt độ nhỏ gọn và có độ nhạy cao. Các cảm biến này có thể được sử dụng trong các ứng dụng như giám sát nhiệt độ trong các thiết bị điện tử, theo dõi nhiệt độ cơ thể, và kiểm soát nhiệt độ trong các quá trình công nghiệp.

5.2. Tạo Năng Lượng Cho Các Thiết Bị Điện Tử Tiêu Thụ Điện Năng Thấp

Thiết bị nhiệt điện màng mỏng có thể cung cấp năng lượng cho các thiết bị điện tử tiêu thụ điện năng thấp như cảm biếnthiết bị y tế. Việc sử dụng nhiệt thải từ cơ thể hoặc môi trường xung quanh để tạo ra điện năng có thể giúp kéo dài tuổi thọ pin và giảm thiểu sự phụ thuộc vào các nguồn năng lượng truyền thống.

5.3. Phát Triển Các Hệ Thống Thu Hồi Nhiệt Thải Quy Mô Nhỏ

Màng mỏng nhiệt điện có thể được tích hợp vào các hệ thống thu hồi nhiệt thải quy mô nhỏ để chuyển đổi nhiệt thải từ các nguồn như động cơ đốt trong và thiết bị công nghiệp thành điện năng. Các hệ thống này có thể giúp tăng hiệu quả sử dụng năng lượng và giảm thiểu tác động đến môi trường.

VI. Kết Luận Hướng Phát Triển Nghiên Cứu Vật Liệu ZnO Nhiệt Điện

Nghiên cứu về màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In đã chứng minh tiềm năng to lớn của vật liệu này trong lĩnh vực nhiệt điện. Tuy nhiên, vẫn còn nhiều thách thức cần được giải quyết để tối ưu hóa tính chất nhiệt điện và ứng dụng vật liệu này trong thực tế. Các hướng nghiên cứu tiếp theo bao gồm việc tìm kiếm các phương pháp chế tạo mới, khám phá các nguyên tố pha tạp khác, và phát triển các thiết bị nhiệt điện màng mỏng có hiệu suất cao.

6.1. Nghiên Cứu Các Phương Pháp Chế Tạo Màng Mỏng Tiên Tiến Nhất

Việc nghiên cứu các phương pháp chế tạo màng mỏng tiên tiến như ALDphún xạ phân tử (MBE) có thể giúp kiểm soát tốt hơn cấu trúcthành phần của màng mỏng ZnO đồng pha Ga và In, từ đó cải thiện tính chất nhiệt điện.

6.2. Khám Phá Các Nguyên Tố Pha Tạp Thay Thế Ga và In

Việc khám phá các nguyên tố pha tạp khác có thể mang lại những cải thiện đáng kể về tính chất nhiệt điện của màng mỏng ZnO. Các nguyên tố này cần có kích thước ion và độ âm điện phù hợp để tạo ra sự thay đổi trong cấu trúc điện tửphonon mà không gây ra sự hình thành các pha thứ cấp.

6.3. Phát Triển Các Thiết Bị Nhiệt Điện Màng Mỏng Hiệu Suất Cao

Việc phát triển các thiết bị nhiệt điện màng mỏng có hiệu suất cao đòi hỏi sự kết hợp giữa vật liệu tiên tiến, thiết kế tối ưu, và quy trình chế tạo chính xác. Các thiết bị này cần có khả năng thu hồi nhiệt thải hiệu quả và chuyển đổi thành điện năng với tổn thất tối thiểu.

14/05/2025
Luận án tiến sĩ studying thermoelectric properties of ga and in co doped zno thin films

Trích đoạn nội dung tài liệu

VIETNAM NATIONAL UNIVERSITY - HO CHI MINH UNIVERSITY OF SCIENCE INSTITUTE FOR NANOTECHNOLOGY PHAM THANH TUAN ANH Doctoral Thesis Ho Chi Minh City — 2024 VIETNAM NATIONAL UNIVERSITY - HO CHI MINH UNIVERSITY OF SCIENCE INSTITUTE FOR NANOTECHNOLOGY PHAM THANH TUAN ANH STUDYING THERMOELECTRIC PROPERTIES OF Ga AND In CO-DOPED ZnO THIN FILMS Specialty: Materials Science Code: 62440122 Reviewer 1: Assoc. Nguyén Tran Ha Reviewer 2: Assoc. Nguyén Manh Tuan Reviewer 3: Assoc. Dao Vinh Ai Independent reviewer 2: Assoc.

Nguyễn Dang Nam SUPERVISORS 1. Tran Cao Vinh 2. Phan Bach Thang Ho Chi Minh City — 2024 Declaration I declare that my PhD thesis in Material Science, with the title “Studying thermoelectric properties of Ga and In co-doped ZnO thin films” is a scientific work done by myself under the supervision of Assoc. Tran Cao Vinh and Prof.

Phan Bach Thang. The research results of the thesis are completely honest and accurate, and do not coincide with previous studies that have been domestically and internationally published. Candidate Pham Thanh Tuan Anh Acknowledgments As I reach the culmination of my doctoral journey and prepare to submit this thesis, I am filled with immense gratitude and a profound sense of accomplishment. This academic endeavor would not have been possible without the unwavering support, guidance, and encouragement of numerous individuals who have played significant roles in shaping my academic and personal growth.

I would like to express my heartfelt appreciation to all of you. I am deeply grateful to Vietnam National University Ho Chi Minh City, specifically University of Science, Center for Innovative Materials and Architectures, and Institute of Nanotechnology, for providing me with the opportunity to work, study, and pursue my doctoral studies. The intellectual environment, state-of-the-art facilities, and exceptional faculty members have been instrumental in fostering my research skills and cultivating a passion for knowledge. I would like to express my sincere gratitude to my supervisors, Assoc.

Tran Cao Vinh and Prof. Phan Bach Thang. Their expertise, guidance, and patience have been invaluable throughout this research journey. Their unwavering support and constructive feedback have not only strengthened the quality of this thesis but have also helped me grow as a researcher.

I am truly fortunate to have had their instruction, and their influence will remain with me as I embark on future endeavors. I would like to express my appreciation to my colleagues at Laboratory of Advanced Materials, Faculty of Materials Science and Technology, Faculty of Physics and Engineering physics, and INOMAR Center, with whom I have had the privilege to collaborate and exchange ideas, especially MSc. Nguyen Huu Truong, MSc. Hoang Van Dung, Assoc.

Pham Kim Ngoc, Dr. Ta Thi Kieu Hanh, Dr. Le Tran, MSc. Lai Thi Hoa, Dr.

Tran Quang Minh Nhat, MSc. Truong Cao Dai, MSc. Nguyen Duy Khanh, MSc. Doan Thi Tu Uyen, and BSc.

Phan Thi Thuy Trang. Your assistance, insights, and discussions have broadened my perspectives, challenged my assumptions, and elevated the quality of my research. To my friends and students, thank you for standing by me through difficulties. Your support and encouragement have been a constant source of strength throughout my doctoral pursuit.

Your belief in my abilities has pushed me forward and made the process enjoyable. I cherish the memories we have created together and look forward to many more adventures in the future. My heartfelt thanks go to my loving family, my grandparents, my parents, my brothers, and my relatives for their unconditional love and constant encouragement. Your unwavering belief in my potential has been the driving force behind my achievements.

Your sacrifices and understanding have made it possible for me to focus on my studies and pursue my passion wholeheartedly. I am eternally grateful for the support you have provided. My deepest love goes to my beautiful wife, MSc. Le Truong Kieu Oanh and my children for your support, love, and care.

All of you are the biggest motivation for me to endeavor. I would also like to especially thank Prof. Kuei-Hsien Chen (Academia Sinica, Taiwan), Prof. Sungkyun Park (Pusan National University, Korea), Prof.

Su-Dong Park (Korea Electrotechnology Research Institute, Korea), Prof. Ohtaki Michitaka (Kyushu University, Japan), and everyone who have contributed to my academic and personal growth, through scientific instruments, experimental analyses, discussions, encouragement, or a simple act of kindness. Last but not least, I would like to acknowledge financial support from Vietnam Ministry of Science and Technology, National Foundation of Science and Technology Development of Vietnam (NAFOSTED), Vietnam National University Ho Chi Minh City (VNU-HCM), University of Science, Vingroup Innovation Foundation (VINIF), and Vallet Scholarship. Contents Thesis information .0009009 009 00966090 i List of figures and graphs.ccsccssssscscsscccsscessscssccccsscsscscssccsesscccssessscsssccsesecees iii List of data tables.

HH 0000404005000 00900 ix List of symbols and aCTOIIVITS. HC 001060060010 400050004084 00 xi Chapter 1. Overview and mOfÏVAfÏOII. Evaluation of thermoelectric DerfOTmaiCe.

Dimensionless figure of merit and power ÍaCfOT. Quality factor oo. Trade-offs among TE parameters. «kg HH ng ng 8 1.

Seebeck COeÍICITIL.- G9 HH HH ng nh 8 1. Density-of-state (DOS) effective mass. Optimization prObÏ€mm. Thermoelectric ZnO Imiaf€TIÌÏS.-- óc 11212119111 1 2 1 vn ng re 12 1.

Suitability for power-generation appÏ1CafIO'S. Research literature and Motivation .-- 5 55 + ke 14 IS Noi ỆPP£POIIIIOỔOỜOỔ3. Thin-film Immaf€T1AÌS. - 5 5 S131 vn ng rn 17 1.

Scientific ideas and DUTDOS€S .-- - - 131 v1 1 H1 ng ng ng 20 1. Dimension reduction apprOachh. Synthesis technique s€Ï€CfIOT. Experiments and metho(Ì0ÌOĐÏ€S.

--s- <5 e< se< se ess=seesesse25 2. Materials and composition calculation. Bulk material synthesis 718. Thin-film synntheSI1S.-- 5 11v SH HH HH 30 2.

Fabrication of sputtering farB€fS. Deposition DTOC€SS.- HH HH HH 32 2.-- -- << + E11 vn ng ng nệt 34 2. X-ray photoelectron SD€CfTOSCODY. Photoluminescence sD€CITOSCODV.

Seebeck and resistivity MeaSUFEMENL. Hall effect-based measurermehnf. Laser flash analysis. Ăn HT TH HH TH kg 41 2.

Time-domain thermoreflectance. Differential scanning Calorimetry .- 5 2 11311230 E911 9119 119 ng ng ng nệt 49 2. Other analysis technn1QU€S.- - -- <6 1x 19 E9 kg re 50 Chapter 3. Compensation of Zn substitution and secondary phase segregation in thermoelectric IGZO bulk materials.

Elemental binding energy analysis. Lattice defect eVaÏUALIOII. Electrical and thermopower Properties. Thermoelectric quality factor and figure Of T€TII.

Lattice-defect engineering in thermoelectric IGZO thin films. Dual-doping strategy 0. Composition and binding energy anaÌyS€S. Microcrystalline structure and morphoÌOØV.

Electrical and thermopower properties. Thermal properties and thermoelectric performance. --- ----- 96 ÝÄxU ni 8v an. Chemical binding state and structural anaÏysS1S.

Energy band structure and point def€CfS. - 2G G1 ng TH ni HH nà 114 Chapter 5. Fermi-level and band structure modification in thermoelectric properties of IGZO thin films. Crystallography, band structure, and Fermi-level position.

Morphology and mICTOSfTUCẦUTC. Power factor components and band fÏattening. Thermal components and thermoelectric performance. 2G 0 0110119011930 911991 TH ng ve 138 Conclusions and future WOFKS.

so 555 5 2< 56 9 99919 989898950800956096856 139 List of related UDÌÏÏCiAÏOTNS,.004004 000 161 Thesis information Thesis title: Studying thermoelectric properties of Ga and In co-doped ZnO thin films. Speciality: Material Science Code: 62440122 Name of PhD Student: Pham Thanh Tuan Anh Academic year: 2017 Supervisors: Assoc. Tran Cao Vinh Prof. Phan Bach Thang At: VNUHCM- University of Science 1.

SUMMARY: This thesis aims to introduce, investigate, and optimize thermoelectric In and Ga co-doped ZnO materials in both bulk and thin-film forms which can convert efficiently waste heat to electricity at medium- and high-temperature regions. In particular, the structural and thermoelectric properties of the ZnO-based thin films are modified by controlling carrier concentration, mobility, Fermi level, density-of- state effective mass, and lattice defects in the films. This research is an important step toward fabricating real TE modules, specifically thin-film devices. Furthermore, the effects of dopants on electrical and phonon transport mechanisms are clarified.

This understanding can orient for other dopants in thermoelectric ZnO-based materials. NOVELTY OF THESIS: i. The one-step prepared IGZO bulks which were directly sintered at 1400°C obtain the lowest thermal conductivity and the highest power factor, especially at high temperature. The spinel phase segregation is found to be the main reason.

The analysis of secondary phase-controlled TE performance in terms of DOS effective mass, weighted mobility, and quality factor can be viewed as a novel approach for ZnO-based system. It is an effort to inherit good properties of the bulks, combined with the advantages of thin films, to optimize the TE performance of the IGZO films. The TE properties of the IGZO films are controlled through lattice-defect engineering that was conducted in two ways: dual-doping and post-thermal treatment. The combination of the dual-doping effect and post-thermal treatment is found to reduce significantly the thermal conductivity of the IGZO thin films to 0.95 W/mK, leading to the highest figure of merit ZT = 0.

Band structure modification is found one of the state-of-the-art strategies to control electrical and thermal transport properties, and optimize the TE performance. Tuning In and Ga contents is found to coupling modification of Fermi level and band flattening, leading to the ZT of 0.2 and PF of 745.2 uW/mK? at 573 K for the IGZO films deposited from the Ino. It proposes that the IGZO thin films approach the high ZT region (ZT = 0.2) of advanced nanostructured ZnO- based bulks. The determination of thermal conductivity is normally challenging for thin- film materials due to their transparency, and ultra-fast thermal diffusivity, which cannot be measured by common laser flash analyses.

In this thesis, the thermal diffusivity and conductivity of the IGZO thin films were estimated using the time- domain thermoreflectance (TDTR) technique with high sensitivity and accuracy. APPLICATIONS/ APPLICABILITY/ PERSPECTIVE i. The introduction of novel IGZO thin films with optimized TE performance can continue to be published, and extend to other dopants in ZnO-based materials. |The IGZO bulks can be applied for thermoelectric power generation batteries.

The IGZO thin films can be used in miniaturized devices, such as power supply for the Internet of Things and for powering wearable electronics/sensors powered by body heat. -11- List of figures and graphs Figure 1. Thermoelectric effects: (a) Seebeck effect, (b) Peltier effect, and (c) Thomson effect, including absorption and evolution of heat. Dependence of Seebeck coefficient S, electrical conductivity ø, thermal conductivity x, power factor PF, and figure of merit ZT on carrier concentration n.

Structural model of hexagonal wurtzite of ZnO material. Some thermoelectric materials with appropriate operating temperature ranges. Adapted from the Refs. Description of top-down approach for synthesizing ZnO-based thin films.

A comprehensive characterization is essential for modifying the structure, properties, modeling, and processing of ZnO-based mat€r1aÌS. The preparation processes: (a) ball milling, (b) the 1“ step — sintering of one-step preparation, and precursor powder preparation of two-step preparation, (c) the 2TM step — sintering of two-step preparation; (d) naked-eye photograph and (e) volumetric change of the IGZO bulks sintered by various prOCesSes. Temperature setpoints and hourly schedule for the thermal processes of DI e0) Tố ằẻ ằe. Homemade 3-inch targets with various compositions after many times of sputtering: (a)-(b) Representative green compact body prior to sintering, (c) ZnO, (d) GZO, (e) IGZO 0.

Sputtering system Leybold Univex-450 at AM-Lab. Measurement configurations of (a) Seebeck coefficient, (b) resistivity, and (c) thin-film modes; (d) commercial ULVAC ZEM-3 system at KERI; (e) commercial Linseis LSR-3 system at INOMAR Center. Commercial Hall measurement systems: (a) Room-temperature Ecopia HMS-3000, (b) the HTSST3 heated stage sample kit to 300°C at IAMS, and (c) design of Ecopia HMS-5500 and experiments on it at KERI. (a) Overview of a typical LFA system, (b) principle of LFA technique, and (c) typical transient temperature rise curve from LFA.

Commercial LFA systems: (a)-(b) Netzsch LFA-457 system, and coating samples with graphite prior to the measurements at KERI; (c) Linseis LFA500/1000 system at INOMAR Center; and (d) KEM LFA-502 at Kyushu University.

Nội dung được bảo vệ bản quyền — Tải xuống đầy đủ